[發(fā)明專利]造型系統(tǒng)及造型方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880035548.6
• 申請日: 2018-03-27
• 公開（公告）號: CN110709195B
• 公開（公告）日: 2022-05-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 柴崎祐一
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: B22F3/105
• 分類號: B22F3/105;B22F3/16;B33Y10/00;B33Y30/00
• 代理公司: 北京中原華和知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張琳

1.一種造型系統(tǒng)，其使用光束在對象面上形成三維造型物，具備：

光束照射部，自末端透鏡射出通過相對于軸傾斜的光路的光束；

材料供給部，具有材料供給口，沿所述軸供給要利用來自所述光束照射部的光束照射的粉狀造型材料；

外罩部件，具有自一端側(cè)向另一端側(cè)逐漸收斂的內(nèi)表面，且在所述另一端形成有使來自所述光束照射部的光束通過的出口；及

氣體供給裝置，經(jīng)由氣體供給口向所述末端透鏡的下方的所述外罩部件內(nèi)部的第1空間內(nèi)供給惰性氣體；

所述惰性氣體經(jīng)由所述外罩部件的所述出口向所述第1空間之外流動；

所述造型材料經(jīng)由所述外罩部件的所述出口供給至所述第1空間之外；

所述光束照射部包含能改變傾斜角度的反射部；

所述光束經(jīng)由所述反射部，通過相對于所述軸傾斜的光路；

所述末端透鏡的上方的第2空間相對于所述第1空間為正壓。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的造型系統(tǒng)，其中所述惰性氣體成為回旋流，沿所述外罩部件的內(nèi)表面向所述出口流動。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的造型系統(tǒng)，其中所述惰性氣體繞所述軸成為回旋流，向所述出口流動。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的造型系統(tǒng)，以形成所述回旋流的方式，自所述氣體供給口供給所述惰性氣體。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的造型系統(tǒng)，其中所述氣體供給口位于比所述外罩部件的高度方向的中央更上部。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的造型系統(tǒng)，其中所述氣體供給裝置實質(zhì)上沿所述外罩部件的所述內(nèi)表面將所述惰性氣體自所述氣體供給口供給至所述第1空間內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的造型系統(tǒng)，其中所述外罩部件的所述內(nèi)表面在至少一部分包含曲面，

所述氣體供給裝置實質(zhì)上沿所述曲面的切線方向?qū)⑺龆栊詺怏w自所述供給口供給至所述第1空間內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的造型系統(tǒng)，其中所述氣體供給裝置向比水平更下方將所述惰性氣體經(jīng)由所述氣體供給口供給至所述第1空間內(nèi)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的造型系統(tǒng)，其中所述光束照射部具有聚光光學(xué)系統(tǒng)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的造型系統(tǒng)，其中所述聚光光學(xué)系統(tǒng)具有所述末端透鏡，

所述軸與所述末端透鏡的光軸大致平行。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的造型系統(tǒng)，其中所述氣體供給口在所述軸的方向上，處于與所述末端透鏡的射出面大致相同的位置。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的造型系統(tǒng)，其中在所述末端透鏡以包含所述光軸的方式形成有貫通孔。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的造型系統(tǒng)，其中所述材料供給部具有配置于所述末端透鏡的所述貫通孔內(nèi)的所述造型材料的供給管。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的造型系統(tǒng)，其中所述供給管與所述末端透鏡之間由密封部件密封。

15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的造型系統(tǒng)，其中所述材料供給口配置于所述外罩部件的所述出口與所述末端透鏡之間。

16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的造型系統(tǒng)，其具有保持所述末端透鏡的保持部件，所述保持部件內(nèi)部的空間為所述第2空間。

17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的造型系統(tǒng)，其具有保持所述末端透鏡的保持部件，

所述外罩部件由所述保持部件保持。