[發(fā)明專利]發(fā)光裝置和投影儀在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880034906.1 | 申請(qǐng)日： | 2018-05-22 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN110710067A | 公開（公告）日： | 2020-01-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 今井保貴 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | H01S5/022 | 分類號(hào)： | H01S5/022;G03B21/14;F21V9/32;F21V29/502;F21V29/60;G03B21/00;F21S2/00;F21V7/30;F21V9/40;G02B5/20;H01L33/50 |
| 代理公司： | 11127 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 李慶澤;鄧毅 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光源 凹凸形狀 發(fā)光裝置 熒光體 發(fā)光效率 膜狀地 射出光 照射光 射出 發(fā)光 | ||
1.一種發(fā)光裝置，其包含：
基體；
光源，其射出光；以及
熒光體，其呈膜狀地設(shè)置于所述基體的第1面，利用從所述光源射出的光而發(fā)光，
所述熒光體的與所述基體側(cè)相反的一側(cè)的第2面具有凹凸形狀，
所述光源相對(duì)于所述凹凸形狀傾斜地照射光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，
從所述光源射出的光的光軸的方向與構(gòu)成所述凹凸形狀的凸部的突出方向交叉。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光裝置，其中，
所述熒光體具有：
平板部，其設(shè)置于所述第1面，具有平板狀的形狀；以及
突出部，其從所述平板部突出，
所述凹凸形狀由所述平板部和所述突出部形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光裝置，其中，
所述基體具有：
平板部，其具有平板狀的形狀；以及
突出部，其從所述平板部突出，
所述凹凸形狀由所述平板部和所述突出部形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光裝置，其中，
該發(fā)光裝置包含設(shè)置在所述基體與所述熒光體之間的基底層，
所述熒光體隔著所述基底層設(shè)置于所述第1面，
所述基底層具有：
平板部，其設(shè)置于所述第1面，具有平板狀的形狀；以及
突出部，其從所述平板部突出，
所述凹凸形狀由所述平板部和所述突出部形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任意一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置，其中，
該發(fā)光裝置包含驅(qū)動(dòng)部，該驅(qū)動(dòng)部使所述基體以在構(gòu)成所述凹凸形狀的凸部的突出方向上延伸的軸為旋轉(zhuǎn)軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任意一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置，其中，
所述光源具有：
發(fā)光元件，其射出光；以及
光學(xué)元件，其使從所述發(fā)光元件射出的光的光軸彎曲。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任意一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置，其中，
從所述第1面的法線方向觀察到的俯視圖中的構(gòu)成所述凹凸形狀的凸部的形狀為六邊形。
9.一種投影儀，其包含：
基體；
光源，其射出光；以及
熒光體，其呈膜狀地設(shè)置于所述基體的第1面，利用從所述光源射出的光而發(fā)光，
所述熒光體的與所述基體側(cè)相反的一側(cè)的第2面具有凹凸形狀，
所述光源相對(duì)于所述凹凸形狀傾斜地照射光。
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