[發(fā)明專利]用于檢流計(jì)掃描儀校準(zhǔn)的設(shè)備、系統(tǒng)和方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880033132.0
• 申請(qǐng)日: 2018-04-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110651218B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J·斯莫;R·J·馬丁森
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 恩耐公司
• 主分類號(hào): G02B27/32
• 分類號(hào): G02B27/32;B22F3/105;G01B11/00;G01B11/25;B23Q17/24
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 劉文燦

1.一種用于檢流計(jì)掃描儀校準(zhǔn)的設(shè)備，包括：

光源，其被定位成產(chǎn)生基準(zhǔn)源光束；以及

光學(xué)基準(zhǔn)圖案生成器，其被定位成用所述基準(zhǔn)源光束在激光處理目標(biāo)上產(chǎn)生至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)，所述激光處理目標(biāo)位于激光掃描儀的視場(chǎng)中，所述激光掃描儀被定位成在所述激光處理目標(biāo)上掃描激光處理光束，使得所述激光處理光束在所述激光處理目標(biāo)上的定位變得相對(duì)于所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)能夠調(diào)整。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述激光處理目標(biāo)包括粉末材料，所述粉末材料被定位成漫反射所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述粉末材料形成第一層，所述第一層用所述激光處理光束被選擇性地處理，并且額外的粉末材料被沉積，以形成一個(gè)或多個(gè)后續(xù)層，其中，所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)在所述第一層處和所述一個(gè)或多個(gè)后續(xù)層中的至少一個(gè)處產(chǎn)生，以提供所述激光處理光束的所述掃描的原位校準(zhǔn)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括光學(xué)檢測(cè)器，所述光學(xué)檢測(cè)器通過(guò)所述激光掃描儀光學(xué)耦合到所述激光處理目標(biāo)，基于所述激光掃描儀的一個(gè)或多個(gè)掃描光學(xué)器件的掃描位置到所述視場(chǎng)的子場(chǎng)視場(chǎng)，其中，所述光學(xué)檢測(cè)器被定位成檢測(cè)所述子場(chǎng)視場(chǎng)中的所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中，所述激光掃描儀被配置為針對(duì)所述一個(gè)或多個(gè)掃描光學(xué)器件的不同掃描位置，將所述激光處理光束引導(dǎo)至所述子場(chǎng)視場(chǎng)中的預(yù)定位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中，所述光學(xué)檢測(cè)器包括相機(jī)、光電二極管、CMOS檢測(cè)器和CCD檢測(cè)器中的一個(gè)或多個(gè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中，所述光學(xué)檢測(cè)器被定位成在所述激光處理光束未上電或處于非處理功率的同時(shí)檢測(cè)所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，還包括控制器，所述控制器耦合到所述光學(xué)檢測(cè)器和所述激光掃描儀，并且被配置為將所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)的檢測(cè)位置與所述激光處理光束的位置進(jìn)行比較，以基于所述比較來(lái)更新掃描誤差校正表，并且根據(jù)所更新的掃描誤差校正表來(lái)掃描所述激光處理光束。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，還包括所述激光掃描儀。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，還包括激光處理光束源，其被定位成生成所述激光處理光束并且將所述激光處理光束引導(dǎo)至所述激光掃描儀。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)被成形為環(huán)形，并且調(diào)整所述激光處理光束相對(duì)于所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)的所述定位是基于對(duì)所述環(huán)形的檢測(cè)的。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)具有與所述激光處理光束的波長(zhǎng)間隔開(kāi)的波長(zhǎng)。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述基準(zhǔn)圖案生成器包括衍射光學(xué)元件，所述衍射光學(xué)元件被定位成將所述基準(zhǔn)源光束衍射成衍射光束，以產(chǎn)生所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)包括多個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)，所述多個(gè)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)在所述激光掃描儀的所述視場(chǎng)中以預(yù)定基準(zhǔn)圖案間隔開(kāi)。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其中，所述激光掃描儀被定位成將所述激光處理光束引導(dǎo)至所述視場(chǎng)的與相應(yīng)瞬態(tài)光學(xué)基準(zhǔn)的位置相關(guān)聯(lián)的不同子場(chǎng)。

16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，還包括光學(xué)檢測(cè)器，所述光學(xué)檢測(cè)器被定位成檢測(cè)由所述激光處理目標(biāo)或鄰近所述激光處理目標(biāo)的表面反射的所述衍射光束的零階部分。