[發明專利]沉淀二氧化硅及其制造方法在審
| 申請號: | 201880029882.0 | 申請日: | 2018-05-03 |
| 公開(公告)號: | CN110603225A | 公開(公告)日: | 2019-12-20 |
| 發明(設計)人: | E.奧蘭奈曼;C.法爾奧-馬丁;P.加伯;L.居伊;S.內沃;C.菲奧勒 | 申請(專利權)人: | 羅地亞經營管理公司 |
| 主分類號: | C01B33/193 | 分類號: | C01B33/193 |
| 代理公司: | 72001 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 徐晶;林毅斌 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 沉淀二氧化硅 酸性位 制造 | ||
1.一種沉淀二氧化硅,其特征在于:
-至少一種選自由B、Al、Ga及其混合物組成的組的元素M的量在從0.5至30.0mol%的范圍內;
-紅外吸收光譜具有在1538與1559cm-1之間的至少一個峰以及在1612與1635cm-1之間的至少一個峰,所述光譜在用吡啶化學吸附至飽和隨后在真空下在25℃下處理之后測量,其中比率(在1538與1559cm-1之間的峰下的面積)/(在1612與1635cm-1之間的峰下的面積)是至少1.20。
2.如權利要求1所述的沉淀二氧化硅,其中,該在1538與1559cm-1之間的峰下的面積是至少0.02cm-1。
3.如前述權利要求中任一項所述的沉淀二氧化硅,其中,該在1612與1635cm-1之間的峰下的面積是至少0.01cm-1。
4.如前述權利要求中任一項所述的沉淀二氧化硅,其中,該至少一種元素M選自由Al和Ga組成的組。
5.如前述權利要求中任一項所述的沉淀二氧化硅,其特征在于:BET表面積是從40至800m2/g、優選從50至450m2/g。
6.一種用于制備如權利要求1至5中任一項所述的沉淀二氧化硅的方法,該方法包括:使硅酸鹽與酸反應以產生沉淀二氧化硅的懸浮液,所述反應包括至少一個步驟,其中將硅酸鹽或者至少一種元素M的化合物添加到該反應介質中同時該反應介質是在從2.0至6.0、優選從3.0至5.0的范圍內的pH下,并且其中在將硅酸鹽的按重量計總量的50%添加到該反應介質中之前將該至少一種元素M的化合物添加到其中。
7.如權利要求6所述的方法,所述方法包括:
(i)提供具有等于或大于7.0的pH的起始溶液;
(ii)通過同時將硅酸鹽和酸添加到所述起始溶液中或者通過將酸添加到所述起始溶液中將該反應介質的pH降低至低于7.0的值;以及
(iii)向該反應介質中同時添加硅酸鹽和酸,使得該反應介質的pH保持在從2.0至6.0的范圍內以獲得沉淀二氧化硅的懸浮液,
其中在步驟(i)、(ii)以及(iii)中的至少一個期間將至少一種元素M的化合物添加到該反應介質中,其前提是在將該反應所需的硅酸鹽的總量的按重量計50%添加到該反應介質之前進行此添加。
8.如權利要求7所述的方法,該方法包括以下步驟:
(iv)將在步驟(iii)結束時的該反應介質的pH增加至等于或大于7.0的值;
(v)以這樣一種方式同時添加酸和硅酸鹽,使得該反應介質的pH保持在從7.0至10.0、優選從7.5至9.5的范圍內;以及
(vi)停止添加硅酸鹽同時繼續添加酸以使該反應介質的pH達到小于6.0。
9.如權利要求7或8中任一項所述的方法,其中,在階段(i)、(ii)、(iii)或(iv)中的至少一個中,將該至少一種元素M的化合物添加到該反應介質中。
10.如權利要求7至9中任一項所述的方法,其中,在階段(i)或(ii)中,將該至少一種元素M的化合物添加到該反應介質中。
11.如權利要求6至10中任一項所述的方法,其中,該至少一種元素M的化合物是鋁酸鈉。
12.一種組合物,其包含根據權利要求1至5中任一項所述的沉淀二氧化硅和至少一種聚合物,優選地在彈性體中選擇。
13.一種制品,其包含如權利要求12所述的組合物。
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