[發明專利]用于沉積作為鐵電材料的硅摻雜氧化鉿的新制劑

有效

• 申請號: 201880028472.4
• 申請日: 2018-03-14
• 公開（公告）號: CN110573652B
• 公開（公告）日: 2022-07-22
• 發明（設計）人: 雷新建;M·R·麥克唐納;金武性;李世遠
• 申請（專利權）人: 弗薩姆材料美國有限責任公司
• 主分類號: C23C16/40
• 分類號: C23C16/40;C23C16/455;C23C16/56
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 吳亦華;徐志明

1.一種用于沉積硅摻雜正交晶相鐵電氧化鉿膜的組合物，所述組合物包含：

（a）至少一種具有下式的有機氨基硅烷前體化合物

Si(NR¹R²)₄；

其中

有機氨基基團中的R¹和R²獨立地選自直鏈或支鏈C₁-C₆烷基；其中

R¹和R²連接以形成環狀環結構；或R¹和R²不連接形成環狀環結構；

所述至少一種有機氨基硅烷前體化合物在所述組合物的0.10至10.00wt%范圍內；

和

（b）至少一種具有下式的有機氨基鉿前體化合物

Hf(NR¹R²)₄；

其中

有機氨基基團中R¹和R²獨立地選自直鏈或支鏈C₁-C₆烷基；其中

R¹和R²連接以形成環狀環結構或R¹和R²不連接形成環狀環結構；

其中所述組合物具有熔點，并且所述組合物的熔點為≤30°C；以及

其中所述至少一種有機氨基鉿前體化合物在所述組合物的0.10至99.00wt%之間。

2.根據權利要求1所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基硅烷前體和所述至少一種有機氨基鉿前體具有相同的有機氨基基團。

3.根據權利要求1所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基硅烷前體化合物選自四(二甲基氨基)硅烷(TDMAS)、四(二乙基氨基)硅烷(TDEAS)、四(乙基甲基氨基)硅烷(TEMAS)、四(吡咯烷基)硅烷及其組合；和

其中所述至少一種有機氨基鉿前體化合物選自四(二甲基氨基)鉿(TDMAH)、四(二乙基氨基)鉿(TDEAH)、四(乙基甲基氨基)鉿(TEMAH)、四(吡咯烷基)鉿及其組合。

4.根據權利要求1所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基硅烷前體化合物選自四(二甲基氨基)硅烷和四(乙基甲基氨基)硅烷；且其中所述至少一種有機氨基鉿前體化合物選自四(二甲基氨基)鉿和四(乙基甲基氨基)鉿。

5.根據權利要求1所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基硅烷前體化合物具有0.10-10.00重量%的范圍；且所述至少一種有機氨基鉿前體化合物具有0.10-30.00重量%的范圍。

6.根據權利要求5所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基硅烷前體化合物具有5.00-10.00重量%的范圍。

7.根據權利要求5所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基硅烷前體化合物具有0.10-5.00重量%的范圍。

8.根據權利要求5所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基鉿前體化合物具有0.10-20.00重量%的范圍。

9.根據權利要求5所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基鉿前體化合物具有0.10-10.00重量%的范圍。

10.根據權利要求5所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基鉿前體化合物具有5.00-30.00重量%的范圍。

11.根據權利要求5所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基鉿前體化合物具有5.00-20.00重量%的范圍。

12.根據權利要求5所述的組合物，其中所述至少一種有機氨基鉿前體化合物具有5.00-10.00重量%的范圍。