[發明專利]用于植物的除草劑耐受性的方法和組合物在審
| 申請號: | 201880028449.5 | 申請日: | 2018-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN110621154A | 公開(公告)日: | 2019-12-27 |
| 發明(設計)人: | S·L·萊克萊雷 | 申請(專利權)人: | 孟山都技術公司 |
| 主分類號: | A01H1/00 | 分類號: | A01H1/00;A01N43/00;A01P13/00;C07K14/415;C12N15/01;C12N15/29 |
| 代理公司: | 11256 北京市金杜律師事務所 | 代理人: | 孟凡宏;謝燕軍 |
| 地址: | 美國密*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 耐受性 植物生長素除草劑 除草劑耐受 植物部位 修飾 蛋白 細胞 賦予 | ||
1.一種經修飾的植物或種子,其中所述經修飾的植物或種子對至少一種內源生長素敏感,并且其中所述經修飾的植物或種子表現出對至少一種生長素除草劑的耐受性。
2.如權利要求1所述的經修飾的植物或種子,其中所述內源生長素選自由IAA和NAA組成的組,并且其中所述生長素除草劑選自由麥草畏、2,4-D、毒莠定、綠草定、快克草和氟草煙組成的組。
3.如權利要求1所述的經修飾的植物或種子,其中所述經修飾的植物或種子在編碼AUX/IAA蛋白的內源基因中包含至少一種修飾,其中所述至少一種修飾與沒有所述至少一種修飾的對照植物相比賦予對生長素除草劑的耐受性。
4.如權利要求3所述的經修飾的植物或種子,其中所述修飾產生包含含有基序X1WPPX2的經修飾的降解決定子結構域的AUX/IAA多肽,其中X1相對于野生型AUX/IAA多肽被修飾為天冬酰胺(N)、異亮氨酸(I)或亮氨酸(L)并且其中X2為異亮氨酸(I)、纈氨酸(V)、亮氨酸(L)或蛋氨酸(M)。
5.如權利要求4所述的經修飾的植物或種子,其中所述修飾產生包含與SEQ ID NO:219具有至少90%同一性的氨基酸序列的AUX/IAA多肽,其中所述經修飾的植物或種子不是地膚植物或種子。
6.如權利要求5所述的經修飾的植物或種子,其中所述修飾產生包含氨基酸序列SEQID NO:219的AUX/IAA多肽,其中所述經修飾的植物或種子不是地膚植物或種子。
7.如權利要求1所述的經修飾的植物或種子,其中所述經修飾的植物或種子是作物植物或作物種子。
8.如權利要求7所述的經修飾的植物或種子,其中所述作物植物是單子葉植物。
9.如權利要求8所述的經修飾的植物或種子,其中所述作物植物選自由以下組成的組:玉米、高粱、小麥、油菜、大豆、棉花、葡萄、番茄、馬鈴薯、萵苣、西蘭花、黃瓜、花生、甜瓜、韭菜、洋蔥、水稻和大麥。
10.如權利要求7所述的經修飾的植物或種子,其中所述作物植物是雙子葉植物。
11.如權利要求8所述的經修飾的植物或種子,其中所述作物植物選自由以下組成的組:黃豆、苜蓿、向日葵、棉花、油菜和甜菜。
12.如權利要求1所述的經修飾的植物或種子,其中所述修飾使得與沒有所述修飾的對照植物或種子相比對生長素除草劑的耐受性增加。
13.一種產生經修飾的植物的方法,所述方法包含以下步驟:
a.在植物細胞的AUX/IAA基因中引入修飾;
b.鑒別和選擇在AUX/IAA的降解決定子結構域中包含所述修飾的步驟(a)的一種或多種植物細胞;以及
c.從步驟(b)中選擇的至少一種或多種細胞再生至少一種植物。
14.一種經修飾的DNA分子,其編碼經修飾的生長素/吲哚-3-乙酸(AUX/IAA)多肽,其中所述AUX/IAA多肽包含含有基序X1WPPX2的經修飾的降解決定子結構域,其中X1相對于野生型AUX/IAA多肽被修飾為天冬酰胺(N)、異亮氨酸(I)或亮氨酸(L)并且其中X2為異亮氨酸(I)、纈氨酸(V)、亮氨酸(L)或蛋氨酸(M)。
15.如權利要求14所述的經修飾的DNA分子,其中X1已從甘氨酸修飾為天冬酰胺。
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