[發(fā)明專利]缺陷檢查裝置以及缺陷檢查方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880028252.1
• 申請日: 2018-05-11
• 公開（公告）號: CN110621988A
• 公開（公告）日: 2019-12-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 川島裕史;上田高敬;江草稔;境紀(jì)和;錦戶良太
• 申請（專利權(quán)）人: 三菱電機(jī)株式會(huì)社
• 主分類號: G01N25/72
• 分類號: G01N25/72;G01N21/956
• 代理公司: 11038 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 許海蘭

1.一種缺陷檢查裝置，包括：

載置臺(3)，載置樣品(17)，該樣品(17)包括通過接合材料接合的第一部件和第二部件；

激光光源(1)，對所述第一部件被載置于所述載置臺(3)的所述樣品(17)所包括的所述第二部件的表面照射激光而加熱所述樣品(17)；以及

紅外線照相機(jī)(2)，檢測從被所述激光加熱的所述第二部件的所述表面輻射的紅外線，

其中，所述載置臺(3)包括冷卻部(3a)，該冷卻部(3a)冷卻所述樣品(17)所包括的所述第一部件。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢查裝置，其中，

還具備控制部(6)，該控制部(6)基于由所述紅外線照相機(jī)(2)檢測的所述紅外線的強(qiáng)度，對所述第一部件與所述第二部件的接合狀態(tài)進(jìn)行解析。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的缺陷檢查裝置，其中，

還具備掩模(20)，該掩模(20)設(shè)置于所述載置臺(3)的上方，面積比從所述上方照射的所述激光的照射區(qū)域(1c)大，

所述掩模(20)包括開口部(21)，該開口部(21)貫通所述掩模(20)，露出位于所述掩模(20)的下方而載置于所述載置臺(3)的所述樣品(17)的所述第二部件的所述表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的缺陷檢查裝置，其中，

還具備冷卻機(jī)構(gòu)，該冷卻機(jī)構(gòu)冷卻所述掩模(20)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或者4所述的缺陷檢查裝置，其中，

所述掩模(20)的材料包括針對所述激光的波長具有比所述樣品(17)具有的吸收系數(shù)高的吸收系數(shù)的材料。

6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中的任意一項(xiàng)所述的缺陷檢查裝置，其中，

所述掩模(20a)在所述開口部(21a)的邊緣具有傾斜面(22)，

所述傾斜面(22)以比入射于所述第二部件的所述表面的所述激光的入射角大的角度，從所述開口部(21a)的中心朝向所述掩模(20a)的外側(cè)向上方傾斜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任意一項(xiàng)所述的缺陷檢查裝置，其中，

還具備光束阻尼器(11)，該光束阻尼器(11)設(shè)置于在所述樣品(17)的所述第二部件的所述表面反射的所述激光傳播的反射光路(1b)上，吸收在所述表面反射的所述激光。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的缺陷檢查裝置，其中，

所述光束阻尼器(11)的受光面比所述受光面中的所述激光的照射面積大。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或者8所述的缺陷檢查裝置，其中，

還具備聚光光學(xué)元件，該聚光光學(xué)元件設(shè)置于所述樣品(17)與所述光束阻尼器(11)之間的所述反射光路(1b)上，

所述光束阻尼器(11)吸收通過所述聚光光學(xué)元件聚光的所述激光。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任意一項(xiàng)所述的缺陷檢查裝置，其中，

所述激光光源(1)出射的所述激光在所述載置臺(3)上的照射區(qū)域(1c)比所述第二部件大。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任意一項(xiàng)所述的缺陷檢查裝置，其中，

所述激光光源(1)相對于所述載置臺(3)的設(shè)置面(3c)的垂線傾斜地設(shè)置，以使所述激光傾斜地入射于所述第二部件的所述表面。

12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中的任意一項(xiàng)所述的缺陷檢查裝置，其中，

所述激光光源(1)的輸出功率為500W以上。

13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中的任意一項(xiàng)所述的缺陷檢查裝置，其中，

所述第一部件為包含銅的部件，

所述第二部件為厚度比所述第一部件薄的半導(dǎo)體芯片(16)。