[發(fā)明專利]用于選擇性激光燒結(jié)的系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880026864.7 | 申請日： | 2018-04-25 |
| 公開（公告）號： | CN110545941A | 公開（公告）日： | 2019-12-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | S·德費(fèi)利斯;A·德克曼 | 申請（專利權(quán)）人： | 赫克賽爾公司 |
| 主分類號： | B22F3/105 | 分類號： | B22F3/105;B29C64/153;B29C64/264;B29C64/268;B29C64/295 |
| 代理公司： | 11494 北京坤瑞律師事務(wù)所 | 代理人： | 封新琴<國際申請>=PCT/US2018 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 輻射加熱器 溫度傳感器 支撐平臺 床表面 粉末層 腔室 選擇性激光燒結(jié) 粉末生產(chǎn) 溫度數(shù)據(jù) 控制器 加熱床 選定點(diǎn) 照射源 施涂 制備 鋪展 照射 響應(yīng) 監(jiān)測 | ||
1.一種用于由粉末生產(chǎn)物體的系統(tǒng)，其包括：
殼體，其限定腔室；
支撐平臺，其設(shè)置在所述腔室中并且能夠沿著軸線在其中移動，用于支撐一個(gè)或多個(gè)粉末層以及在其中形成的任何零件；
鋪展器，其用于將粉末層施涂到由所述支撐平臺的上表面或在所述支撐平臺上最新制備的粉末層的上表面限定的床表面；
照射源，其用于照射在所述支撐平臺上最新制備的粉末層中的選定點(diǎn)；
輻射加熱器，其設(shè)置在所述腔室中并且被配置為加熱所述床表面的至少一部分；
溫度傳感器，其設(shè)置在所述腔室中并且被配置為監(jiān)測所述床表面上的選定點(diǎn)處的溫度，所述溫度傳感器連接到設(shè)置在所述腔室中的支架，所述支架能夠在第一配置和第二配置之間偏置，其中在所述第一配置中，將所述支架鎖定并且所述溫度傳感器相對于所述床表面的位置是固定的，在所述第二配置中，將所述支架解鎖并且所述溫度傳感器相對于所述床表面的位置是可調(diào)節(jié)的；和
控制器，其用于響應(yīng)于由所述溫度傳感器提供的溫度數(shù)據(jù)來調(diào)節(jié)所述輻射加熱器；
其中，所述支架使操作者能夠調(diào)節(jié)和設(shè)定所述溫度傳感器相對于所述床表面的位置，使得所述溫度傳感器能夠監(jiān)測操作者所期望的床表面的選定點(diǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述溫度傳感器是高溫計(jì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，當(dāng)所述支架處于所述第二配置時(shí)，所述支架能夠在所述腔室中沿著第一軸線平移。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中，所述第一軸線平行于所述床表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中，當(dāng)所述支架處于所述第二配置時(shí)，所述支架能夠沿著垂直于所述第一軸線的第二軸線平移。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，當(dāng)所述支架處于所述第二配置時(shí)，所述支架能夠圍繞第一旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，當(dāng)所述支架處于所述第二配置時(shí)，所述支架能夠圍繞第二旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中，所述支架包括球形支架以圍繞所述第一旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)和圍繞所述第二旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)，所述球形支架限定凸弧形表面和凹弧形表面，以便于當(dāng)所述支架處于所述第二配置時(shí)促使旋轉(zhuǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中，所述支架位于所述床的周長的外部。
10.一種用于由粉末生產(chǎn)物體的系統(tǒng)，其包括：
殼體，其限定腔室；
支撐平臺，其設(shè)置在所述腔室中并且能夠沿著軸線在其中移動，用于支撐一個(gè)或多個(gè)粉末層以及在其中形成的任何零件；
鋪展器，其用于將粉末層施涂到由所述支撐平臺的上表面或在所述支撐平臺上最新制備的粉末層的上表面限定的床表面；
照射源，其用于照射在所述支撐平臺上最新制備的粉末層中的選定點(diǎn)；
輻射加熱器，其設(shè)置在所述腔室中并且被配置為加熱所述床表面的至少一部分；
溫度傳感器，其設(shè)置在所述腔室中并且被配置為在構(gòu)建過程期間監(jiān)測所述床表面上多個(gè)位置的溫度；和
控制器，其用于響應(yīng)于由所述溫度傳感器提供的溫度數(shù)據(jù)來調(diào)節(jié)所述輻射加熱器。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其中，所述輻射加熱器包括多個(gè)輻射加熱器。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中，所述控制器調(diào)節(jié)所述輻射加熱器以維持在所述床表面上的第一溫度區(qū)處的第一溫度并且維持在所述床表面上的第二溫度區(qū)處的第二溫度。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中，所述溫度傳感器是高溫計(jì)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其中，所述高溫計(jì)與被配置為掃描所述床表面的掃描儀光學(xué)連通。
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