[發明專利]用于化學機械研磨的漿料組合物

有效

• 申請號: 201880026333.8
• 申請日: 2018-02-22
• 公開（公告）號: CN110536940B
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發明（設計）人: 樸惠貞;李敏鍵;樸昌墉;樸民成;陳成勛;李玖和;樸鐘大;金宰賢
• 申請（專利權）人: 株式會社東進世美肯
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C09K3/14;H01L21/306;H01L21/321
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 金成哲;宋海花

1.一種用于化學機械研磨的漿料組合物，包含：

1)研磨劑；以及

2)研磨選擇比調節劑，其為a)選自由具有磷酸鹽基的環狀化合物、具有磷酸鹽基的無機化合物及具有磷酸鹽基的金屬化合物所組成的群組中的至少一種具有磷酸鹽基的化合物和b)三級胺化合物的混合物，

所述研磨選擇比調節劑以1:0.25至1:5的重量比包含a)具有磷酸鹽基的化合物及b)三級胺化合物。

2.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其中，

所述具有磷酸鹽基的環狀化合物為環狀脂肪族化合物。

3.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其中，

所述具有磷酸鹽基的環狀化合物為選自由肌醇單磷酸鹽、肌醇二磷酸鹽、肌醇三磷酸鹽、肌醇四磷酸鹽、肌醇五磷酸鹽、肌醇六磷酸鹽、葡萄糖-1-磷酸鹽及葡萄糖-6-磷酸鹽所組成的群組中的至少一種。

4.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其中，

所述具有磷酸鹽基的無機化合物為選自由磷酸一銨、磷酸二銨及磷酸三銨所組成的群組中的至少一種。

5.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其中，

所述具有磷酸鹽基的金屬化合物為選自由磷酸一鈉、磷酸二鈉及磷酸三鈉所組成的群組中的至少一種。

6.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其中，

所述研磨選擇比調節劑用于調節氮化硅膜的研磨速度。

7.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其中，

所述三級胺化合物為選自由三甲基胺、三乙基胺、三丁基胺及三丙基胺所組成的群組中的至少一種。

8.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其還包含催化劑。

9.根據權利要求8所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其中，

所述催化劑以全部漿料組合物的總重量計包含0.00001至1重量％。

10.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其還包含至少一種pH調節劑。

11.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其還包含至少一種殺生劑。

12.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其還包含至少一種反應調節劑。

13.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其還包含水、乙醇或它們的混合物。

14.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其還包含至少一種氧化劑。

15.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其中，

所述研磨劑以全部漿料組合物的總重量計包含0.01至10重量％。

16.根據權利要求1所述的用于化學機械研磨的漿料組合物，其中，

所述研磨選擇比調節劑以全部漿料組合物的總重量計包含0.0001至10重量％。