[發明專利]氧化物分散金屬多孔體、電解電極以及氫制造裝置

在審

• 申請號: 201880026145.5
• 申請日: 2018-04-23
• 公開（公告）號: CN110546308A
• 公開（公告）日: 2019-12-06
• 發明（設計）人: 奧野一樹;真島正利;東野孝浩;俵山博匡;光島重德
• 申請（專利權）人: 住友電氣工業株式會社;國立大學法人橫浜國立大學
• 主分類號: C25B11/03
• 分類號: C25B11/03;C25B1/10;C25B9/00;C25B11/06;C25D15/02
• 代理公司: 11112 北京天昊聯合知識產權代理有限公司
• 代理人: 張蘇娜;樊曉煥<國際申請>=PCT/JP

1.一種氧化物分散金屬多孔體，其包括多孔金屬骨架和擔載在所述金屬骨架中的氧化物顆粒。

2.根據權利要求1所述的氧化物分散金屬多孔體，其中所述金屬骨架具有三維網狀結構。

3.根據權利要求1或2所述的氧化物分散金屬多孔體，其中所述氧化物分散金屬多孔體的孔隙率為70體積％以上。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的氧化物分散金屬多孔體，其中所述氧化物分散金屬多孔體的開口直徑為100μm至2000μm。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的氧化物分散金屬多孔體，其中所述氧化物顆粒不均勻地擔載在所述金屬骨架的表層部分中。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的氧化物分散金屬多孔體，其中所述氧化物顆粒的平均粒徑為0.1μm以上10μm以下。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的氧化物分散金屬多孔體，其中所述氧化物分散金屬多孔體的外觀為片狀形式的形狀，并且所述形狀的每單位面積的質量為200g/m²至1500g/m²。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的氧化物分散金屬多孔體，其中所述氧化物分散金屬多孔體的外觀為片狀形式的形狀，并且所述形狀的每單位面積擔載的所述氧化物顆粒的量為10g/m²至100g/m²。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的氧化物分散金屬多孔體，其中所述氧化物分散金屬多孔體的外觀為片狀形式的形狀，并且所述形狀的厚度為0.1mm至10mm。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的氧化物分散金屬多孔體，其中各個所述氧化物顆粒包括選自由氧化鐵、氧化鎳、氧化鉻、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈰、氧化鈷、氧化鉬、氧化釕、氧化銥、氧化錫和氧化硅組成的組中的至少一種。

11.一種電解電極，其包括權利要求1至10中任一項所述的氧化物分散金屬多孔體。

12.一種氫制造裝置，包括：

被構造為存儲堿性水溶液的電解槽；

各自浸入所述堿性水溶液中的陽極和陰極；以及

被構造為在所述陽極和所述陰極之間施加電壓的電源，其中

所述陽極和所述陰極中的至少一者為權利要求11中所述的電解電極。

13.一種氫制造裝置，包括：

陽極；

陰極；

布置在所述陽極和所述陰極之間的電解質膜；以及

被構造為在所述陽極和所述陰極之間施加電壓的電源，其中

所述陽極和所述陰極中的至少一者為權利要求11中所述的電解電極。