[發明專利]TALBOT X射線顯微鏡

有效

• 申請號: 201880025128.X
• 申請日: 2018-04-16
• 公開（公告）號: CN110520716B
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: 云文兵;西爾維婭·賈·云·路易斯;雅諾什·科瑞;大衛·維恩;斯里瓦特桑·塞沙德里
• 申請（專利權）人: 斯格瑞公司
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04;G01N23/044;G01N23/046;G01N23/083;G21K7/00
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258
• 代理人: 林強

用于x射線顯微鏡的系統使用具有微米尺度或納米尺度束強度分布的微束陣列，以提供對物體的微米尺度或納米尺度區域的選擇性照射。陣列檢測器被定位為使得檢測器的每個像素僅檢測與單個微米尺度束或納米尺度相對應的x射線。這允許由每個x射線檢測器像素產生的信號能夠用所照射的特定、有限的微米尺度或納米尺度區域來識別，從而允許在使用更大尺寸和尺度的像素的檢測器的情況下，生成納米尺度或微米尺度的物體的采樣透射圖像。因此，可以使用量子效率更高的檢測器，因為橫向分辨率僅由微米尺度束或納米尺度束的尺寸提供。可以使用陣列x射線源和一組Talbot干涉條紋來產生微米尺度或納米尺度的束。

相關申請的交叉引用

本專利申請要求于2017年4月15日提交的、標題為“TALBOT X射線顯微鏡(TALBOTX-RAY MICROSCOPE)”的美國臨時專利申請No.62/485,916的優先權，并且于2015年5月15日提交的、標題為“用于測量、表征和分析周期性結構的X射線方法(X-RAY METHOD FORMEASUREMENT,CHARACTERIZATION,AND ANALYSIS OF PERIODIC STRUCTURES)”的美國專利申請14/712,917的部份接續申請案，該美國專利申請14/712,917進而是于2015年4月29日提交的、標題為“X射線干涉儀成像系統(X-RAY INTERFEROMETRIC IMAGING SYSTEM)”的美國專利申請14/700,137的部份接續申請案，該美國專利申請14/700,137進而是于2014年10月29日提交的、標題為“X射線干涉儀成像系統(X-RAY INTERFEROMETRIC IMAGINGSYSTEM)”的美國專利申請14/527,523(現已過期)的部份接續申請案，該美國專利申請14/527,523進而要求于2013年10月31日提交的、標題為“X射線相襯成像系統(X-ray PhaseContrast imaging System)”的美國臨時專利申請No.61/898,019；于2013年11月7日提交的、標題為“由精細子源陣列組成的X射線源(An X-ray Source Consisting of an Arrayof Fine Sub-Sources)”的美國臨時專利申請61/901,361；以及于2014年4月17日提交的、標題為“二維相襯成像設備(Two Dimensional Phase Contrast Imaging Apparatus)”的美國臨時專利申請61/981,098的權益，所有這些專利申請的公開內容通過引用以其全文的方式并入本文中。

本申請另外要求于2016年12月2日提交的、標題為“X射線顯微鏡的方法(METHODFOR X-RAY MICROSCOPY)”的美國臨時專利申請No.62/429,587和于2016年12月3日提交的、標題為“使用多個微束的X射線測量技術(X-RAY MEASURMENT TECHNIQUES USING MULTIPLEMICRO-BEAMS)”的美國臨時專利申請No.62/429,760的權益，這兩個美國臨時專利申請通過引用以其全文的方式并入本文中。

技術領域

本技術涉及使用x射線的干涉系統，具體而言涉及使用周期性微束系統照射物體以確定物體的各種結構和化學性質的干涉測量、表征和分析系統。

背景技術

現有技術的x射線顯微鏡通常受到x射線光學器件(例如波帶板)的分辨率和/或檢測器像素大小的分辨率的限制。盡管一些商用x射線顯微鏡系統的分辨率小于100nm，但此類系統的視場極其有限，并且具有大視場的高分辨率x射線顯微鏡難以產生分辨率小于1微米的圖像。

現有技術的Talbot系統傳統上用于低分辨率成像。所需要的是一種利用Talbot干涉條紋來以提高的吞吐量進行高分辨率成像的顯微鏡系統。

發明內容