[發(fā)明專利]用于物體的表面處理的裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880024669.0
• 申請日: 2018-04-10
• 公開（公告）號: CN110637257A
• 公開（公告）日: 2019-12-31
• 發(fā)明（設計）人: O.施塔茨曼;T.席廷格;U.雅恩-夸德;P.施密特
• 申請（專利權）人: IST梅茨有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42;B08B7/00;H01L21/67
• 代理公司: 72001 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 郭帆揚;陳浩然

本發(fā)明涉及一種用于物體的表面處理的裝置，其帶有容納待處理的物體(12)的處理腔(14)、向物體(12)對準的用于UV輻射的輻射源(16)和用于以工作流體加載處理腔(14)的設備(24)，其中，工作流體包含至少一個惰性成分和至少一個光化學活性的活性成分。根據(jù)本發(fā)明，提出一種構造用于檢測在位于處理腔(14)中的工作流體處和/或在物體(12)處的測量數(shù)據(jù)的測量單元(20)，其中，設置有與測量單元(20)相連接的控制單元(18)用于根據(jù)所檢測的測量數(shù)據(jù)影響工作流體的組成。

技術領域

本發(fā)明涉及一種用于物體的表面處理的裝置，尤其用于清潔半導體基質(zhì)或玻璃基質(zhì)，其帶有至少部分地容納待處理的物體的處理腔、向在處理腔中的物體對準的用于UV輻射的輻射源以及用于以工作流體加載處理腔的設備，其中，工作流體包含至少一個惰性成分和至少一個光化學活性的活性成分(Reaktivkomponente)。

背景技術

這樣的清潔裝置為了平面基質(zhì)(如用于例如在半導體工業(yè)中電子或顯示器制造的玻璃或半導體晶片)的表面處理被用以借助于短波的UV輻射在產(chǎn)生臭氧的情況下從光刻漆(Photolack)或掩蔽漆(Abdecklack)移除有機殘余物并且還從基質(zhì)表面移除由灰塵等引起的污物。因此應無問題地且無高次品率地保證在接下來的過程步驟、例如微觀結構化中基質(zhì)的再加工。在此有問題的是，在氧氣的初始濃度過高的情況下臭氧含量變得過高，由此一方面減小了打在基質(zhì)上的UV輻射功率而另一方面高的臭氧濃度有害地作用于基質(zhì)。此外，由于高的臭氧含量，結構性的設備如用于基質(zhì)的支架、殼體或運輸設備被損壞，這一方面可導致不期望的在基質(zhì)上的二次污染而另一方面導致所應用的設備的使用壽命減少。

發(fā)明內(nèi)容

由此處出發(fā)，本發(fā)明目的在于消除在現(xiàn)有技術中出現(xiàn)的缺點并且提供一種裝置，其允許有效地清除基質(zhì)上的污物。在此，清潔作用應很大程度上獨立于運行類型且尤其還在經(jīng)過運行(Durchlaufbetrieb)中始終被保持在最佳區(qū)域中，而不非必要地損壞基質(zhì)和/或處理裝置。

為了實現(xiàn)該目的，提出在權利要求1中所說明的特征組合。本發(fā)明的有利的設計方案和改進方案由從屬權利要求得出。

本發(fā)明從檢測用于有效的清潔作用的參數(shù)并且相應地將其優(yōu)化的構思出發(fā)。與此相應地，根據(jù)本發(fā)明提出，設立有用于檢測在位于處理腔中的工作流體處和/或在物體處的測量數(shù)據(jù)的測量單元，并且與測量單元相連接的控制單元構造用于根據(jù)所檢測的測量數(shù)據(jù)影響工作流體的組成。以此可直接檢測工作流體的在待處理的物體處有效的成分或借助于UV輻射由此所產(chǎn)生的活性部份，由此可限定清潔作用。補充地或備選地也可能的在測量技術上確定在物體處或在物體上實際的清潔效果。通過在考慮另外的參數(shù)(如物體的停留時間和輻射功率)的情況下來適配或調(diào)節(jié)工作流體的混合比，那么可通過控制單元來優(yōu)化工藝流程(Prozessablauf)。

有利地，測量單元具有氣體傳感器用于檢測作用于物體的活性成分和/或惰性成分。

設置有另外的有利的實施方案，即測量單元檢測借助于UV輻射和活性成分所產(chǎn)生的在物體上的清潔作用。

這樣的檢測可由此來實現(xiàn)，即測量單元具有感測物體的表面污染的圖像傳感器。

就此而言在此可存在另外的有利的實施方案，即測量單元構造用于通過光譜學、熒光測量或光學的吸收測量來檢測物體的污染狀態(tài)。

污染度可無接觸地還由此直接在物體處來確定，即測量單元具有檢測由物體反射的或傳輸穿過物體的輻射的輻射傳感器。

為了獲得盡可能均勻的清潔作用，如果工作流體在多個進入部位處可分布地引入到處理腔中的區(qū)域上，是有利的。

為了影響工作流體的組成，如果控制單元作用于至少一個尤其由閥形成的調(diào)節(jié)元件(Stellglied)，是有利的。

另外的改進可由此來實現(xiàn)，即混合腔能夠以工作流體的成分加載并且經(jīng)由流體出口與處理腔連通。