[發(fā)明專利]合成石英玻璃基板用研磨劑及其制備方法以及合成石英玻璃基板的研磨方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201880024428.6
• 申請(qǐng)日: 2018-03-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110546233B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高橋光人;野島義弘
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C09K3/14
• 分類號(hào): C09K3/14;B24B37/00;C03C19/00;C09G1/02
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 張晶;謝順星

1.一種合成石英玻璃基板用研磨劑，其含有研磨顆粒及水而成，其特征在于，

所述研磨顆粒以二氧化硅顆粒為母體顆粒，在該母體顆粒的表面擔(dān)載有鈰與選自除鈰以外的其他三價(jià)稀土元素中的至少一種稀土元素的復(fù)合氧化物顆粒，所述復(fù)合氧化物顆粒為鈰鑭復(fù)合氧化物，鈰/鑭的摩爾比為1.0～4.0。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成石英玻璃基板用研磨劑，其特征在于，所述母體顆粒為非晶質(zhì)二氧化硅顆粒，該非晶質(zhì)二氧化硅顆粒的平均粒徑為60nm以上120nm以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1～2中任一項(xiàng)所述的合成石英玻璃基板用研磨劑，其特征在于，所述復(fù)合氧化物顆粒的粒徑為1nm以上20nm以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～2中任一項(xiàng)所述的合成石英玻璃基板用研磨劑，其特征在于，相對(duì)于所述合成石英玻璃基板用研磨劑100質(zhì)量份，所述研磨顆粒的濃度為5質(zhì)量份以上30質(zhì)量份以下。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的合成石英玻璃基板用研磨劑，其特征在于，相對(duì)于所述合成石英玻璃基板用研磨劑100質(zhì)量份，所述研磨顆粒的濃度為5質(zhì)量份以上30質(zhì)量份以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～2中任一項(xiàng)所述的合成石英玻璃基板用研磨劑，其特征在于，其進(jìn)一步含有添加劑，相對(duì)于所述研磨顆粒100質(zhì)量份，該添加劑的濃度為0.1質(zhì)量份以上5質(zhì)量份以下。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～2中任一項(xiàng)所述的合成石英玻璃基板用研磨劑，其特征在于，pH為3.0以上8.0以下。

8.一種合成石英玻璃基板的研磨方法，其具有粗研磨工序與該粗研磨工序后的精研磨工序，其特征在于，在所述精研磨工序中，使用權(quán)利要求1～2中任一項(xiàng)所述的合成石英玻璃基板用研磨劑進(jìn)行精研磨。

9.一種合成石英玻璃基板用研磨劑的制備方法，其為制備包含研磨顆粒與水的所述合成石英玻璃基板用研磨劑的方法，所述研磨顆粒以二氧化硅顆粒為母體顆粒，在該母體顆粒的表面擔(dān)載有鈰與選自除鈰以外的其他三價(jià)稀土元素中的至少一種稀土元素的復(fù)合氧化物顆粒，所述復(fù)合氧化物顆粒為鈰鑭復(fù)合氧化物，鈰/鑭的摩爾比為1.0～4.0，所述制備方法的特征在于，

所述制備方法具有包含下述子工序的制作所述研磨顆粒的工序，并且具有制備包含該制作的研磨顆粒與水的合成石英玻璃基板用研磨劑的工序：

準(zhǔn)備在分散介質(zhì)中分散有所述二氧化硅顆粒的溶液A的子工序；

準(zhǔn)備作為堿性溶液的溶液B的子工序；

準(zhǔn)備溶解有作為所述復(fù)合氧化物顆粒的前體的鈰鹽及鑭鹽的溶液C的子工序；

通過(guò)混合所述溶液A、所述溶液B及所述溶液C，從而使所述復(fù)合氧化物顆粒從所述復(fù)合氧化物顆粒的前體中析出，并使該析出的復(fù)合氧化物顆粒擔(dān)載于所述二氧化硅顆粒的子工序；及

將溶液溫度設(shè)為60℃以上100℃以下，將包含擔(dān)載有所述復(fù)合氧化物顆粒的二氧化硅顆粒的溶液加熱處理1小時(shí)以上的子工序。