[發明專利]聚酰亞胺系膜及顯示裝置

有效

• 申請號: 201880023511.1
• 申請日: 2018-03-23
• 公開（公告）號: CN110475810B
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發明（設計）人: 大村沙織;巖崎克彥;望月勝紀
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;H04N5/66
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍;唐崢

1.聚酰亞胺系膜，其包含聚酰亞胺系高分子，

在小角X射線散射測定中，在波數區域q為0.01＜q＜0.2的范圍內具有散射強度的極大峰，并且，將q＝0.03時的散射強度作為初始散射強度I₀，極大峰的散射強度I_p與初始散射強度之比I_p/I₀為0.8以上且3.8以下，其中，q的單位為nm^-1，

所述聚酰亞胺系膜還包含二氧化硅微粒，

所述二氧化硅微粒的多分散指數為12～25％，

所述二氧化硅微粒的利用動態光散射法測定的體積平均粒徑D_v50為35nm以上60nm以下，

以聚酰亞胺系高分子和二氧化硅微粒的總含量為基準，所述二氧化硅微粒的含量為15～50質量％，

所述聚酰亞胺系高分子為包含式(PI)表示的重復結構單元的聚酰亞胺系高分子，

式(PI)中，G表示式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)或式(26)表示的基團，上述式中的*表示化學鍵，式(26)中的Z表示單鍵、-O-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH₂-Ar-、-Ar-C(CH₃)₂-Ar-或-Ar-SO₂-Ar-，Ar表示碳原子數為6～20的芳基，

A為式(30)、式(31)、式(32)、式(33)或式(34)表示的基團，式中的*表示化學鍵，Z¹～Z³各自獨立地表示單鍵、-O-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-SO₂-、-CO-或-CO-NR-，R表示甲基、乙基、丙基碳原子數為1～3的烷基或氫原子，

對于A和G中的至少一者而言，構成它們的氫原子中的至少1個氫原子可被選自由氟系取代基、羥基、磺基、碳原子數為1～10的烷基組成的組中的至少1種官能團取代，

所述聚酰亞胺系高分子的重均分子量為50,000～500,000。

2.如權利要求1所述的聚酰亞胺系膜，其中，所述二氧化硅微粒是使用由BET法測得的比表面積算出的一次粒徑為31nm以上且60nm以下的第1二氧化硅微粒、與使用由BET法測得的比表面積算出的一次粒徑為16nm以上且30nm以下的第2二氧化硅微粒的混合物。

3.如權利要求1或2所述的聚酰亞胺系膜，其中，所述二氧化硅微粒是利用動態光散射法測定的體積平均粒徑D_v50為50nm以上且100nm以下的第1二氧化硅微粒、與利用動態光散射法測定的體積平均粒徑D_v50為25nm以上且49nm以下的第2二氧化硅微粒的混合物。

4.如權利要求1或2所述的聚酰亞胺系膜，其中，相對于所述聚酰亞胺系高分子和所述二氧化硅微粒的總含量100質量份而言，還包含0.1質量份以上且3.0質量份以下的金屬醇鹽。

5.顯示裝置，其具備權利要求1～4中任一項所述的聚酰亞胺系膜。