[發明專利]熱射線反射透光性基材、熱射線反射窗在審
| 申請號: | 201880020827.5 | 申請日: | 2018-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN110494778A | 公開(公告)日: | 2019-11-22 |
| 發明(設計)人: | 中西陽介;上田惠梨;待永廣宣;大森裕 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/22 | 分類號: | G02B5/22;G02B1/14;G02B5/26;E06B3/70 |
| 代理公司: | 11256 北京市金杜律師事務所 | 代理人: | 楊宏軍;焦成美<國際申請>=PCT/JP |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透光性基材 表面硬化層 透明導電性氧化物層 透明導電性 熱射線 氧化物 配置 反射 | ||
1.一種熱射線反射透光性基材,具有:
透光性基材;
表面硬化層,配置在所述透光性基材的一個表面上;
透明導電性氧化物層,配置在所述表面硬化層上,并含有透明導電性氧化物。
2.根據權利要求1所述的熱射線反射透光性基材,其中,
所述透明導電性氧化物層含有從
摻雜了從錫、鈦、鎢、鉬、鋅、及氫中選出的一種以上的氧化銦、
摻雜了從銻、銦、鉭、氯、及氟中選出的一種以上的氧化錫、及
摻雜了從銦、鋁、錫、鎵、氟、及硼中選出的一種以上的氧化鋅中選出的一種以上,作為所述透明導電性氧化物。
3.根據權利要求1或2所述的熱射線反射透光性基材,其中,
所述透明導電性氧化物層的厚度為30nm以上且500nm以下。
4.根據權利要求1至3中的任一項所述的熱射線反射透光性基材,其中,
所述表面硬化層的厚度為0.5μm以上且10μm以下。
5.根據權利要求1至4中的任一項所述的熱射線反射透光性基材,其中,
在所述透明導電性氧化物層上還具有表面保護層。
6.根據權利要求5所述的熱射線反射透光性基材,其中,
所述表面保護層的厚度為5nm以上且1μm以下。
7.根據權利要求1至6中的任一項所述的熱射線反射透光性基材,其中,
在所述透光性基材的與所述一個表面相反側的表面上具有粘著劑層。
8.根據權利要求1至7中的任一項所述的熱射線反射透光性基材,其中,
從所述透明導電性氧化物層側所測定的放射率為0.60以下。
9.一種熱射線反射窗,具有:
窗用透光性基材;及
配置在所述窗用透光性基材的一個表面上的根據權利要求1至8中的任一項所述的熱射線反射透光性基材。
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