[發明專利]成像設備、聚焦控制方法以及聚焦判定方法

在審

• 申請號: 201880020431.0
• 申請日: 2018-02-07
• 公開（公告）號: CN110446962A
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: 明壁祐基;南智之
• 申請（專利權）人: 索尼公司
• 主分類號: G02B7/28
• 分類號: G02B7/28;G02B7/34;G02B7/36;G03B13/36;H04N5/232
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 王玉璽

1.一種成像設備，包括：

成像元件，包括圖像輸出像素和相位差檢測像素；以及

控制單元，被配置為基于在執行基于使用所述相位差檢測像素在預定時段內獲得的圖像平面相位差信息的聚焦控制期間獲得的聚焦狀態信息，生成指示聚焦狀態的變化是否是單調變化的聚焦狀態變化信息，并且在聚焦狀態變化信息指示聚焦狀態的變化是單調變化的情況下，繼續基于圖像平面相位差信息的圖像平面相位差聚焦控制。

2.根據權利要求1所述的成像設備，其中，

在聚焦狀態變化信息指示聚焦狀態的變化不是單調變化的情況下，控制單元從圖像平面相位差聚焦控制切換到基于除了圖像平面相位差信息之外的信息的另一聚焦控制。

3.根據權利要求2所述的成像設備，其中，

所述另一聚焦控制包括基于使用圖像輸出像素獲得的圖像信息的對比度聚焦控制或者基于由與所述成像元件分開設置的距離測量信息生成元件獲得的距離測量信息的距離測量信息聚焦控制。

4.根據權利要求2所述的成像設備，其中，

所述另一聚焦控制包括基于使用圖像輸出像素獲得的圖像信息的對比度聚焦控制，以及

控制單元在對比度聚焦控制結束之后執行圖像平面相位差聚焦控制。

5.根據權利要求1所述的成像設備，其中，

所述控制單元在所述預定時段之前判定從相位差檢測像素的輸出獲得的具有視差的兩個圖像的相關性計算結果的可靠性，并且在判定相關性計算結果可靠的情況下生成聚焦狀態變化信息。

6.根據權利要求5所述的成像設備，其中，

在判定相關性計算結果不可靠的情況下，所述控制單元執行全搜索操作。

7.根據權利要求1所述的成像設備，其中，

所述聚焦狀態信息包括聚焦透鏡的實際透鏡位置或由圖像平面相位差信息指示的散焦量，以及

所述控制單元基于實際透鏡位置的變化量或散焦量的變化量來判定聚焦狀態的變化是否是單調變化。

8.根據權利要求1所述的成像設備，其中，

聚焦狀態信息包括聚焦透鏡的實際透鏡位置或由圖像平面相位差信息指示的散焦量，以及

控制單元基于實際透鏡位置的變化量的頻率特性或者散焦量的變化量的頻率特性，判定聚焦狀態的變化是否是單調變化。

9.根據權利要求1所述的成像設備，其中，

所述聚焦狀態信息包括聚焦透鏡的實際透鏡位置或由圖像平面相位差信息指示的散焦量，以及

所述控制單元基于實際透鏡位置或散焦量來判定聚焦狀態的變化是否是單調變化。

10.根據權利要求1所述的成像設備，其中，

所述聚焦狀態信息包括可更換透鏡中的聚焦透鏡的實際透鏡位置，所述實際透鏡位置是通過與可更換透鏡的通信獲取的。

11.一種成像設備，包括：

成像元件，包括圖像輸出像素和圖像平面相位差檢測像素；以及

判定單元，被配置為基于在執行基于使用所述相位差檢測像素在預定時段內獲得的圖像平面相位差信息的聚焦控制期間獲得的聚焦狀態信息，生成指示聚焦狀態的變化是否是單調變化的聚焦狀態變化信息，在聚焦狀態變化信息指示聚焦狀態的變化是單調變化的情況下，判定為聚焦透鏡的焦點位置偏移大的狀態，并且在聚焦狀態變化信息指示聚焦狀態的變化不是單調變化的情況下，判定為由圖像輸出像素成像的被攝體的對比度低的狀態。

12.根據權利要求11所述的成像設備，其中，

所述聚焦狀態信息包括聚焦透鏡的實際透鏡位置或由圖像平面相位差信息指示的散焦量；以及

所述判定單元基于實際透鏡位置的變化量或散焦量的變化量來判定聚焦狀態的變化是否是單調變化。