[發明專利]通過增材制造途徑合成原位金屬基質納米復合物在審
| 申請號： | 201880020279.6 | 申請日： | 2018-02-09 |
| 公開（公告）號： | CN110573275A | 公開（公告）日： | 2019-12-13 |
| 發明（設計）人： | 西瓦·法尼·庫瑪·亞拉曼奇里 | 申請（專利權）人： | 歐瑞康表面處理解決方案股份公司普費菲孔 |
| 主分類號： | B22F3/105 | 分類號： | B22F3/105;C22C29/00;C22C29/06;C22C29/12;C22C29/14;C22C29/16;C22C29/18;C22C32/00;B33Y10/00;B33Y40/00 |
| 代理公司： | 11129 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 | 代理人： | 何志欣 |
| 地址： | 瑞士普費*** | 國省代碼： | 瑞士;CH |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 金屬基質 反應性等離子體 選擇性激光熔化 納米復合結構 化學計量比 納米復合物 高溫結構 氮化物 工藝室 硅化物 納米級 熱穩定 碳化物 氧化物 摻入 陶瓷 制造 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于形成包含金屬基質納米復合物的部件的增材制造合成方法，所述方法包括以下步驟：
-在腔室中優選地在Me粉末床上進行反應性等離子體點燃，其中，所述Me粉末是包含金屬的粉末，同時通過構建平臺在熔融區域中施加幾個100eV的靜電勢；
-在所述粉末床上進行激光光柵掃描，以非常局部地引起熔池形成；
-以幾個100eV的能量靜電驅動反應性氣體離子X+進入所述熔池，所述X+例如是N+、O+、Si+、B+和/或C+；
-引起熔融原料和反應性氣體離子之間的化學相互作用以原位形成陶瓷化合物，例如碳化物、氮化物、氧化物和/或硅化物，例如通過以下反應路徑：{Me(l)+X+(g)-->MeX(s)}；
-固化，從而形成具有納米級分散的金屬基質復合物。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，調節激光功率和/或光柵掃描速度和/或偏置電壓以影響所述熔融原料的流體再循環模式和/或流體動力和/或等離子體反應性，以引起氮化物沉淀物在液池固化之前分解，優選地分解成納米級。
3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，反應性氣體離子X+是N+離子。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，Me是Ti和/或Al或其混合物。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于歐瑞康表面處理解決方案股份公司普費菲孔，未經歐瑞康表面處理解決方案股份公司普費菲孔許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201880020279.6/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：銅合金粒子、表面包覆銅系粒子和混合粒子
- 下一篇：制造鋁合金零件的方法
