[發(fā)明專利]用于控制用于工件制造的輻照系統(tǒng)的方法和設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880020170.2
• 申請日: 2018-01-15
• 公開（公告）號: CN110475633B
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 安德里亞斯·維斯納;簡·威爾克斯;克里斯蒂亞娜·蒂爾;盧卡斯·勒斯根
• 申請（專利權(quán)）人: SLM方案集團股份公司
• 主分類號: B22F3/105
• 分類號: B22F3/105;B33Y50/02;B29C64/153;B29C64/277
• 代理公司: 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 張瑋;王琳

1.一種用于控制輻照系統(tǒng)（20）的方法，其中，所述輻照系統(tǒng)（20）在用于增材制造三維工件的設(shè)備（10）中使用并且包括至少三個輻照單元（22a-d，50），其中，所述方法包括以下步驟：

針對所述輻照單元（22a-d，50）中的每一個限定輻照區(qū)域（30a-d），其中，所述輻照區(qū)域（30a-d）各自包括平行于所述設(shè)備（10）的承載器（16）延伸的輻照平面（28）的部分，并且其中，對所述輻照區(qū)域（30a-d）進行限定使得所述輻照區(qū)域在公共交疊區(qū)域（34）中交疊；

將所述公共交疊區(qū)域（34）細分成多個分割區(qū)域（T1-T4），所述多個分割區(qū)域（T1-T4）中的每一個與所述輻照單元（22a-d，50）中的至少一個相關(guān)聯(lián)；

改變所述分割區(qū)域的邊界以使得所述分割區(qū)域（T1-T4）在兩個相繼的原料粉末層之間彼此不相同；

輻照布置在所述承載器（16）上的原料粉末層以生成工件層；以及

將另外的原料粉末層布置在已經(jīng)輻照的原料粉末層上以生成另外的工件層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，

其中，所述輻照區(qū)域（30a-d）在所述輻照平面（28）中的比例各自在0%至100%之間并且包括100%；和/或

其中，所述公共交疊區(qū)域（34）在所述輻照平面（28）中的比例在0%至100%之間并且包括100%。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，

其中，所述輻照單元（22a-d，50）和/或所述輻照區(qū)域（30a-d）的各自的中心構(gòu)成一多邊形。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，

進一步包括以下步驟：

選擇用于所述公共交疊區(qū)域的輻照的至少一個輻照單元（22a-d，50）。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，

其中，在輻照所述另外的工件層之前再次實施所述選擇步驟。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，

其中，針對兩層相繼的原料粉末層，對用于所述公共交疊區(qū)域（34）的所述輻照單元（22a-d，50）的選擇不同。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，

其中，選擇多個所述輻照單元（22a-d，50）用于所述公共交疊區(qū)域（34）的輻照，以便并行地或相繼地對所述公共交疊區(qū)域（34）進行輻照。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，

其中，為了選擇用于所述公共交疊區(qū)域（34）的所述輻照單元（22a-d，50），實施以下步驟：

選擇所述輻照單元（22a-d，50）以用于對所述公共交疊區(qū)域（34）進行輻照，在所述公共交疊區(qū)域（34）的輻照區(qū)域（30a-d）中，待生成的工件層也延伸到所述公共交疊區(qū)域（34）之外；或者

選擇所述輻照單元（22a-d，50）以用于對所述公共交疊區(qū)域（34）進行輻照，在所述公共交疊區(qū)域（34）的輻照區(qū)域（30a-d）中，待生成的工件層沒有延伸到所述公共交疊區(qū)域（34）之外。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，

其中，所述輻照區(qū)域（30a-d）被限定以使得在所述輻照平面（28）內(nèi)對所述公共交疊區(qū)域（34）的布置在兩個相繼的原料粉末層之間改變。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，

其中，通過對所述分割區(qū)域邊界的交匯點（P）進行移位來改變所述分割區(qū)域的邊界。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，

其中，對所述交匯點（P）的移位隨機地或根據(jù)預(yù)定的模式來進行。