[發明專利]寬帶全向聚合物抗反射涂層

有效

• 申請號: 201880018752.7
• 申請日: 2018-01-09
• 公開（公告）號: CN110431121B
• 公開（公告）日: 2022-02-22
• 發明（設計）人: 王保民;N·C·吉本克
• 申請（專利權）人: 賓州研究基金會
• 主分類號: C03C17/28
• 分類號: C03C17/28;G02B1/111
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 丁靄迪;翟羽

1.一種產生抗反射涂層的方法，所述方法包括：

經由沉積工藝在聚合物基底的表面上形成涂層，在所述基底的表面上形成涂層，使得：

在涂層材料汽化期間，涂層材料汽化以形成涂層材料的鏈片段，所述汽化的鏈片隨后擴散到所述聚合物基底的表面中、隨著所述鏈片段的層施加到所述基底的表面上而深入到所述基底的表面一定深度，擴散到所述基底中的鏈片段隨后再聚合以與所述基底的聚合物鏈互鎖；并且

其中，深入到所述聚合物基底的表面的所述深度至少為5納米至高達1微米，并且所述表面為所述聚合物基底的外表面，以致于所述深度從所述外表面延伸至所述聚合物之內的深度。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述涂層材料包括含氟聚合物。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述涂層材料包括聚合物材料。

4.根據權利要求1所述的方法，其中所述基底是塑料、丙烯酸或聚碳酸酯。

5.根據權利要求1所述的方法，其中所述基底是彎曲的。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述基底是彎曲透鏡。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述基底是菲涅耳透鏡。

8.根據權利要求1所述的方法，其中所述沉積工藝是掠射角沉積工藝。

9.根據權利要求8所述的方法，其中所述掠射角沉積工藝還包括將所述基底保持在低于所述基底的玻璃化轉變溫度的溫度。

10.根據權利要求1所述的方法，其中通過所述涂層材料的汽化通過所述涂層材料的蒸發而發生。

11.根據權利要求1所述的方法，其中所述基底是小透鏡陣列。

12.一種光學部件，包括：

基底，被配置用作光學元件，所述基底具有形成在所述基底的表面的至少一部分上的涂層，所述涂層通過根據權利要求1的方法形成。