[發(fā)明專利]化學機械式研磨后清洗用組合物有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201880018338.6 | 申請日： | 2018-03-06 |
| 公開（公告）號： | CN110418834B | 公開（公告）日： | 2021-04-09 |
| 發(fā)明（設計）人： | 李昇勛;李昇炫;金勝煥 | 申請（專利權）人： | 榮昌化學制品株式會社 |
| 主分類號： | C11D11/00 | 分類號： | C11D11/00;C11D7/32;C11D7/26;C11D7/50 |
| 代理公司： | 北京青松知識產(chǎn)權代理事務所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 鄭青松 |
| 地址： | 韓國慶*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 機械式 研磨 清洗 組合 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學機械式研磨后清洗用組合物，所述組合物包含氫氧化膽堿、四丁基氫氧化銨、1,2,4-三唑、2-羥基吡啶、聚氧乙烯壬基苯基醚、山梨糖醇基聚醚多元醇，其中，
所述組合物由氫氧化膽堿5至20重量％、四丁基氫氧化銨1至10重量％、1,2,4-三唑1至4重量％、2-羥基吡啶2至4重量％、聚氧乙烯壬基苯基醚0.01至5重量％、山梨糖醇基聚醚多元醇0.01至5重量％及使得整個組合物成為100重量％的余量的超純水構成。
2.根據(jù)權利要求1所述的化學機械式研磨后清洗用組合物，其中，
所述組合物包含氫氧化膽堿10至15重量％、四丁基氫氧化銨1至5重量％。
3.根據(jù)權利要求2所述的化學機械式研磨后清洗用組合物，其中，
所述組合物的pH為9至13。
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