[發(fā)明專利]超聲波清洗裝置和超聲波清洗方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880018261.2
• 申請日: 2018-03-16
• 公開（公告）號: CN110446564B
• 公開（公告）日: 2022-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 干場英里;伊達(dá)博充;西本工;上村賢一
• 申請（專利權(quán)）人: 日本制鐵株式會社
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B3/10;C23G3/00
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種超聲波清洗裝置，其中，

該超聲波清洗裝置包括：

處理槽，其收納用于清洗被清洗物的清洗液，所述被清洗物浸漬于該處理槽；

超聲波施加機(jī)構(gòu)，其用于對保持于所述處理槽的內(nèi)部的所述清洗液施加超聲波；以及

曲面構(gòu)件，其為多個(gè)，其與所述超聲波施加機(jī)構(gòu)的振動(dòng)面相對并且位于自該振動(dòng)面的端部處的法線方向向外側(cè)以預(yù)定的傾斜角限定的范圍內(nèi)，將該曲面構(gòu)件保持于所述處理槽的壁面和/或底面，該多個(gè)曲面構(gòu)件隔開預(yù)定的間隔地配置并且不具有使超聲波聚焦的凹部，

所述曲面構(gòu)件具有凸曲面，在該凸曲面至少存在具有球面或非球面的表面形狀的凸彎曲部，該凸彎曲部成為比除所述凸彎曲部以外的部分向所述振動(dòng)面?zhèn)韧怀龅臓顟B(tài)，

以自所述超聲波施加機(jī)構(gòu)照射出且沒有發(fā)生反射的聲波即第一聲波的至少一部分到達(dá)所述凸曲面的所述凸彎曲部的方式以所述凸曲面朝向所述振動(dòng)面的狀態(tài)對該曲面構(gòu)件進(jìn)行保持，

在將所述超聲波的波長設(shè)為λ時(shí)，所述凸曲面的所述凸彎曲部的最大高度H滿足λ/2＜H的關(guān)系，

多個(gè)所述曲面構(gòu)件彼此的分開距離L相對于該曲面構(gòu)件的凸彎曲部的最大高度H而言滿足3H＜L的關(guān)系。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波清洗裝置，其中，

所述傾斜角的大小為0度以上且30度以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的超聲波清洗裝置，其中，

所述曲面構(gòu)件的所述凸彎曲部相對于位于基于所述振動(dòng)面而限定的所述范圍內(nèi)的所述曲面構(gòu)件的總表面積而言具有30％以上的面積比。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的超聲波清洗裝置，其中，

所述曲面構(gòu)件的所述凸彎曲部相對于所述處理槽的位于基于所述振動(dòng)面而限定的所述范圍內(nèi)的壁面和/或底面的總面積而言具有1％以上且80％以下的面積比。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的超聲波清洗裝置，其中，

配置有所述曲面構(gòu)件的所述壁面和/或所述底面不具有凹部。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的超聲波清洗裝置，其中，

所述振動(dòng)面與所述曲面構(gòu)件的所述凸曲面處的賦予所述凸彎曲部的最大高度的位置之間的分開距離D為5cm以上且250cm以下。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的超聲波清洗裝置，其中，

所述曲面構(gòu)件是由聲阻抗為1×10⁷以上且2×10⁸以下的材料形成的曲面構(gòu)件，所述聲阻抗的單位是kg·m^－2·sec^－1。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的超聲波清洗裝置，其中，

該超聲波清洗裝置還包括溶解氣體控制機(jī)構(gòu)，該溶解氣體控制機(jī)構(gòu)用于對保持于所述處理槽的所述清洗液中的溶解氣體量進(jìn)行控制。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的超聲波清洗裝置，其中，

所述溶解氣體控制機(jī)構(gòu)用于進(jìn)行控制以使所述溶解氣體量成為所述清洗液的溶解飽和量的1％～50％。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的超聲波清洗裝置，其中，

該超聲波清洗裝置還包括小氣泡供給機(jī)構(gòu)，該小氣泡供給機(jī)構(gòu)用于向保持于所述處理槽的所述清洗液中供給具有預(yù)定的平均氣泡直徑的小氣泡。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的超聲波清洗裝置，其中，

所述小氣泡供給機(jī)構(gòu)用于將平均氣泡直徑為0.01μm～100μm的所述小氣泡以氣泡總量成為10³個(gè)/mL～10¹⁰個(gè)/mL的方式供給。