[發明專利]含有新型多觸發單體的抗蝕劑組合物和方法在審
| 申請號： | 201880017317.2 | 申請日： | 2018-08-27 |
| 公開（公告）號： | CN110959137A | 公開（公告）日： | 2020-04-03 |
| 發明（設計）人： | A·P·G·羅賓森;A·麥克蘭德;A·弗羅姆霍爾德;楊東旭;J·L·羅斯;D·尤爾 | 申請（專利權）人： | A·P·G·羅賓森;A·麥克蘭德;A·弗羅姆霍爾德;楊東旭;J·L·羅斯;D·尤爾 |
| 主分類號： | G03F7/004 | 分類號： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 余姚德盛專利代理事務所(普通合伙) 33239 | 代理人： | 周積德 |
| 地址： | 英國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 含有 新型 觸發 單體 抗蝕劑 組合 方法 | ||
1.一種多觸發負性光致抗蝕劑組合物，包含：
a.至少一種聚合物、低聚物或單體，均包含兩種或更多種可交聯官能團，其中基本上所有官能團都與酸不穩定性保護基團連接，
b.至少一種酸活化的交聯劑，和
c.光酸產生劑或熱酸產生劑中的至少一種。
2.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物，其中所述單體是一種或多種具有以下結構的化合物：
其中X和Y相同或不同，并且均包含可交聯官能團，其中酸不穩定性保護基團與所述官能團連接，其中R1、R2、R3和R4相同或不同，并且是具有或不具有一個或多個被取代到鏈中的雜原子的1-16個碳原子的支鏈或無支鏈、取代或未取代、飽和或不飽和的二價烷基鏈，當R1、R2、R3和R4中的任何2個或更多個彼此共價連接時，取代或未取代的芳族基團、雜芳族基團、稠合芳族或稠合雜芳族基團、芳烷基、脂環族基團、或者環狀、雙環或多環狀環形成。
3.根據權利要求2所述的抗蝕劑組合物，其中包含具有結構I-IV的單體混合物。
4.根據權利要求3所述的抗蝕劑組合物，其中X或Y中的至少一個包括
-(烷基)j-(芳基)k-(O)p-(COO)q-ALPG
其中j、k、p和q取下表中的值：
-烷基- -芳基- -O- -COO- j k p q 1 1 1 1 1 1 0 1 1 1 1 0 1 0 0 1 1 0 1 0 0 1 1 1 0 1 0 1 0 1 1 0 0 0 0 1
其中烷基是具有或不具有一個或多個被取代到鏈中的雜原子的1-16個碳原子的支鏈或無支鏈、取代或未取代、飽和或不飽和的二價烷基鏈，芳基是取代或未取代的芳族基團、雜芳族基團、或者稠合芳族或稠合雜芳族基團，并且其中ALPG是離去基團。
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