[發(fā)明專利]復(fù)合鍍鉻覆膜和具有該覆膜的活塞環(huán)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880016420.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110382747B | 公開(公告)日: | 2021-04-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 西山邦廣;村松曉;市川貴之 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社理研 |
| 主分類號(hào): | C25D15/02 | 分類號(hào): | C25D15/02;C25D5/14;C25D5/18;C25D7/00;F02F5/00;F16J9/26 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 魯雯雯;金龍河 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 復(fù)合 鍍鉻 具有 活塞環(huán) | ||
1.一種復(fù)合鍍鉻覆膜,其是在網(wǎng)狀的微小龜裂內(nèi)含有硬質(zhì)粒子的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,在所述復(fù)合鍍鉻覆膜的包覆面的X射線衍射測(cè)定中,Cr(110)面的X射線衍射強(qiáng)度I(110)最大,所述I(110)相對(duì)于Cr(200)面的X射線衍射強(qiáng)度I(200)的比(I(110)/I(200))為9.5以上,所述復(fù)合鍍鉻覆膜通過使用以鉻酸CrO3作為鉻源的鍍?cè)⌒纬伞?/p>
2.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述I(110)相對(duì)于Cr(310)面的X射線衍射強(qiáng)度I(310)的比(I(110)/I(310))為27.0以上。
3.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述Cr(110)面的織構(gòu)系數(shù)TC(110)為1.2~2.5。
4.如權(quán)利要求3所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述TC(110)相對(duì)于所述Cr(200)面的織構(gòu)系數(shù)TC(200)的比(TC(110)/TC(200))為1.6~2.8。
5.如權(quán)利要求3所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述TC(110)相對(duì)于所述Cr(310)面的織構(gòu)系數(shù)TC(310)的比(TC(110)/TC(310))為5.2~8.0。
6.如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述硬質(zhì)粒子含有氧化鋁粒子。
7.如權(quán)利要求6所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述氧化鋁粒子的含量為0.5~10質(zhì)量%。
8.如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述硬質(zhì)粒子含有金剛石粒子。
9.如權(quán)利要求8所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述金剛石粒子的含量為0.5~2.5質(zhì)量%。
10.如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述硬質(zhì)粒子含有氧化鋁粒子和金剛石粒子。
11.如權(quán)利要求10所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述氧化鋁粒子的含量為0.5~10質(zhì)量%,所述金剛石粒子的含量為0.5~2.5質(zhì)量%。
12.如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,鍍鉻基體的硬度為800~1100HV0.05。
13.如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述微小龜裂具有600~1900條/cm的分布密度。
14.如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的復(fù)合鍍鉻覆膜,其特征在于,所述復(fù)合鍍鉻覆膜由至少兩層復(fù)合鍍鉻層構(gòu)成。
15.一種活塞環(huán),其特征在于,至少在滑動(dòng)面上形成有權(quán)利要求1~14中任一項(xiàng)所述的復(fù)合鍍鉻覆膜。
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