[發(fā)明專利]平版印刷版前體及使用方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880015409.7
• 申請日: 2018-02-20
• 公開（公告）號: CN110382246B
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: O.默卡;J-P.克姆林;O.R.勃魯姆;B.尤爾
• 申請（專利權(quán)）人: 伊斯曼柯達(dá)公司
• 主分類號: B41N3/03
• 分類號: B41N3/03;B41N1/08;C25D11/12;B41C1/10
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張慧;周齊宏

1.一種平版印刷版前體，其包含：

具有平表面的基底，和

設(shè)置在所述基底的所述平表面上方的輻射敏感可成像層，

其中所述基底包含：

具有經(jīng)粗糙化和蝕刻的平表面的含鋁版；

設(shè)置在所述經(jīng)粗糙化和蝕刻的平表面上的氧化鋁內(nèi)層，所述氧化鋁內(nèi)層：具有至少650nm且至多3,000 nm的平均干厚度T_i；并包含具有小于或等于15 nm的平均內(nèi)微孔直徑D_i的多個(gè)內(nèi)微孔；

設(shè)置在所述氧化鋁內(nèi)層上的氧化鋁外層，所述氧化鋁外層：包含具有至少15 nm且至多30 nm的平均外微孔直徑D_o的多個(gè)外微孔；具有至少130 nm且至多650 nm的平均干厚度T_o；并具有至少500 微孔/μm²且至多3,000微孔/μm²的微孔密度C_o，其中所述平均外微孔直徑D_o與所述平均內(nèi)微孔直徑D_i的比率大于1.1:1，并且以納米計(jì)的所述平均外微孔直徑D_o和以微孔/μm²計(jì)的所述微孔密度C_o進(jìn)一步根據(jù)以下方程式受到所述氧化鋁外層的孔隙率P_o的限制：

0.3 P_o 0.8

其中P_o定義為3.14(C_o)(D_o²)/4,000,000；和

包含一種或更多種親水有機(jī)聚合物的親水層，所述親水層以至少0.0002 g/m²且至多0.1 g/m²的干覆蓋率直接設(shè)置在所述氧化鋁外層上。

2.權(quán)利要求1所述的平版印刷版前體，其中所述氧化鋁外層具有至少150 nm且至多400nm的平均干厚度T_o。

3.權(quán)利要求1或2所述的平版印刷版前體，其中所述氧化鋁內(nèi)層具有至少700 nm且至多1500 nm的平均干厚度T_i。

4.權(quán)利要求1或2所述的平版印刷版前體，其中以下方程式成立：

0.3 P_o 0.6。

5.權(quán)利要求1或2所述的平版印刷版前體，其中所述平均外微孔直徑D_o與所述平均內(nèi)微孔直徑D_i的比率為至少1.5:1。

6.權(quán)利要求1或2所述的平版印刷版前體，其中所述親水層包含一種或更多種水溶性有機(jī)聚合物，所述水溶性有機(jī)聚合物中的至少一種包含衍生自丙烯酸或甲基丙烯酸、或丙烯酸和甲基丙烯酸兩者的重復(fù)單元。

7.權(quán)利要求6所述的平版印刷版前體，其中所述親水層中的一種或更多種水溶性有機(jī)聚合物中的至少50 mol%的所述重復(fù)單元衍生自丙烯酸或甲基丙烯酸、或丙烯酸和甲基丙烯酸兩者。

8.權(quán)利要求1或2所述的平版印刷版前體，其中所述輻射敏感可成像層對紅外輻射敏感并包含一種或更多種紅外輻射吸收劑。

9.權(quán)利要求4所述的平版印刷版前體，其中所述輻射敏感可成像層是陰圖制版并包含：

(a)一種或更多種可自由基聚合組分；

(b)在所述輻射敏感可成像層曝光于輻射后提供自由基的引發(fā)劑組合物；

(c)一種或更多種輻射吸收劑；和任選地，

(d)不同于所有(a)、(b)和(c)的聚合物粘合劑。

10.權(quán)利要求9所述的平版印刷版前體，其中所述輻射敏感可成像層是紅外輻射敏感的并且所述一種或更多種輻射吸收劑包含一種或更多種紅外輻射吸收劑。