[發明專利]樣品表面成像的方法和裝置

有效

• 申請號: 201880015168.6
• 申請日: 2018-02-22
• 公開（公告）號: CN110537131B
• 公開（公告）日: 2022-05-17
• 發明（設計）人: 彼得·斯皮伊格;德爾·奧拉夫·霍洛瑞徹爾;沃爾弗拉姆·伊巴赫
• 申請（專利權）人: WITEC威斯森查特利什儀器和技術股份有限公司
• 主分類號: G02B21/00
• 分類號: G02B21/00;G01J3/44
• 代理公司: 北京中北知識產權代理有限公司 11253
• 代理人: 焦燁鋆

1.一種通過共焦拉曼和熒光顯微檢查對具有形貌的樣品表面成像的方法，其中提供了一種用于產生拉曼散射光和/或熒光的激勵輻射的第一光源，以及第二光源，

其特征在于：

-所述第一光源發射第一波長范圍內的光，其中，所述第一波長范圍的極限由待檢測樣品的所發出的熒光光譜和/或拉曼光譜的極限所確定，

-所述第一光源的光通過光學元件被引導到所述樣品上，

-所述第二光源發射第二波長范圍內的光，其中，所述第二波長范圍位于所述第一波長范圍之上或之下，而與所述第一波長范圍不重疊；并且

-通過光學元件和周期性激勵透鏡的所述第二光源的光進入到所述樣品的表面上，產生周期性焦點，使得

-借助控制/調節裝置，從所述第二光源的焦平面的信號以及所述第二光源的被檢測光確定所述樣品的形貌，并且基于該信號通過光學元件跟蹤所述第一光源的焦點并使其應用到所述樣品，基于該信號通過光學元件跟蹤所述第二光源的周期性焦點的調制范圍。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：通過改變顯微鏡物鏡與樣品之間的距離，將所述第一光源引入到焦平面。

3.根據權利要求1-2任意一項所述的方法，其特征在于：所述第一光源和第二光源的光均被引導通過相同的顯微鏡物鏡。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述第二光源的焦平面周期性地改變，并且從在樣品表面上的第二光源反射和/或散射光的強度的最大值的時間進程確定所述樣品的形貌。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述周期性激勵的透鏡是電聚焦透鏡，其中通過施加電壓或通過電流控制焦距。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：通過沿顯微鏡的光軸方向移動樣品進行了在顯微鏡物鏡與樣品之間距離的改變。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：用于產生拉曼散射光和/或熒光的激勵輻射的第一光源，與第二光源，同時發射輻射。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述輻射為光。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：對通過所述第一光源激勵的拉曼散射光和/或熒光的測量，以及借助所述第二光源對所述樣品形貌的測量基本上同時進行。

10.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述第一光源包括具有第一焦點尺寸的第一焦點，所述第二光源包括具有第二焦點尺寸的第二焦點，并且所述第一焦點尺寸與所述第二焦點尺寸基本相同。

11.根據權利要求1所述的方法，用于高分辨率測量的使用。

12.根據權利要求11所述的方法，用于拉曼和/或熒光信號在多孔和/或粗糙樣品上的使用。

13.根據權利要求1所述的方法，用于測量的使用。

14.根據權利要求13所述的方法，用于拉曼和/或熒光信號在具有熱漂移和/或機械漂移的樣品上的使用。

15.根據權利要求1所述的方法，用于測量的使用。

16.根據權利要求15所述的方法，用于拉曼和/或熒光信號在干燥的樣品或蒸發的液體上的使用。

17.根據權利要求1所述的方法用于同步測量樣品上的拉曼和/或熒光信號及表面形貌的使用。