[發明專利]磁記錄介質、含氟醚化合物及磁記錄介質用潤滑劑

有效

• 申請號: 201880014817.0
• 申請日: 2018-02-06
• 公開（公告）號: CN110366575B
• 公開（公告）日: 2023-03-07
• 發明（設計）人: 南拓也;奧野好成;山口裕太;宮坂隆太;福本直也;服部寬子;富田浩幸;瀨理通夫;伊藤直子;太田一朗;室伏克己
• 申請（專利權）人: 昭和電工株式會社
• 主分類號: C08G65/331
• 分類號: C08G65/331;C08G65/333;C10M107/38;G11B5/725;C10N20/04;C10N30/00;C10N40/18
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 王磊;段承恩

本發明的含氟醚化合物由下述通式(1)表示。(在通式(1)中，X表示三價原子或三價原子團，A表示包含至少1個極性基的連接基，B表示具有全氟聚醚鏈的連接基，D表示極性基或末端具有極性基的取代基。)

技術領域

本發明涉及磁記錄介質、含氟醚化合物以及磁記錄介質用潤滑劑。

本申請基于2017年3月2日在日本申請的特愿2017-039816號來主張優先權，將其內容援用到本文中。

背景技術

為了使磁記錄再生裝置的記錄密度提高，適于高記錄密度的磁記錄介質的開發進展。

以往，作為磁記錄介質，有在基板上形成記錄層，在記錄層上形成碳等保護層的磁記錄介質。保護層保護記錄于記錄層的信息，并且提高磁頭的滑動性。然而，僅僅通過在記錄層上設置保護層，不能充分獲得磁記錄介質的耐久性。因此，一般而言，在保護層的表面涂布潤滑劑而形成潤滑層。

作為形成磁記錄介質的潤滑層時所使用的潤滑劑，例如，提出了含有在具有包含CF₂的重復結構的氟系聚合物的末端具有羥基等極性基的化合物的潤滑劑(例如，參照專利文獻1～3)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2010-248463號公報

專利文獻2：日本特開2012-184339號公報

專利文獻3：國際公開第2013/054393號

專利文獻4：國際公開第2010/038754號

專利文獻5：日本專利第3811880號公報

發明內容

發明所要解決的課題

在磁記錄再生裝置中，要求使磁頭的上浮量更加小。因此，要求使磁記錄介質中的潤滑層的厚度更薄。

然而，如果使潤滑層的厚度薄，則潤滑層易于形成間隙。其結果，被覆保護層表面的潤滑層的被覆率降低。如果使污染物質生成的環境物質從被覆率低的潤滑層的間隙向潤滑層的下層侵入，則環境物質生成離子性雜質等污染磁記錄介質的污染物質。

本發明是鑒于上述情況而提出的，其課題是提供可以適合作為可以形成即使厚度薄，也可以以高被覆率被覆保護層表面的潤滑層的磁記錄介質用潤滑劑的材料而使用的含氟醚化合物。

此外，本發明的課題是提供使用了本發明的含氟醚化合物的磁記錄介質用潤滑劑以及使用了該潤滑劑的磁記錄介質。

用于解決課題的方法

本發明人為了解決上述課題而反復進行了深入研究。

其結果發現，只要是在配置在中央的三價原子或三價原子團X上連接了3個含氟醚基，并且3個含氟醚基從三價原子或三價原子團X側起依次配置了包含至少1個極性基的連接基A、具有全氟聚醚鏈的連接基B、和極性基或末端具有極性基的取代基D的含氟醚化合物即可。

對于上述含氟醚化合物，在將包含含氟醚化合物的潤滑劑涂布在磁記錄介質的保護層上的情況下，從三價原子或三價原子團X沿三個方向延伸的具有全氟聚醚鏈的連接基B被覆保護層表面，并且使磁頭與保護層的摩擦力降低。此外，連接基A和取代基D所具有的極性基在將包含含氟醚化合物的潤滑劑涂布在磁記錄介質的保護層上的情況下，使潤滑劑與保護層密合。

對于這樣的含氟醚化合物，如果使用包含該含氟醚化合物的潤滑劑在保護層上形成潤滑層，則配置在中央的三價原子或三價原子團X通過配置在三價原子或三價原子團X附近的3個連接基A與保護層的結合，而密合在保護層上。此外，與三價原子或三價原子團X連接的3個含氟醚基的末端分別通過取代基D與保護層的結合，而密合在保護層上。