[發明專利]用于小角度X射線散射測量的X射線變焦鏡頭

有效

• 申請號: 201880014362.2
• 申請日: 2018-01-02
• 公開（公告）號: CN110383053B
• 公開（公告）日: 2023-06-09
• 發明（設計）人: N·亞提湄夫;M·弗里德曼
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G01N23/207
• 分類號: G01N23/207;G01B15/00
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉麗楠

1.一種計量系統，其包括：

照射子系統及x射線檢測器，其中：

所述照射子系統包含：

x射線照射源，其經配置以產生x射線輻射，所述x射線照射源具有有限發射區域；

聚焦光學元件，其具有一或多個反射表面，其中與在所述一或多個反射表面上的任一位置處的反射相關聯的物平面的位置及像平面的位置為固定的；

射束選擇子系統，其包含位于在所述x射線照射源與受測量樣品之間的射束路徑中的一或多個可移動狹縫或孔徑，所述射束選擇子系統進一步包含控制所述一或多個可移動狹縫或孔徑的位置和開口的一或多個葉片，且所述一或多個葉片定位于所述聚焦光學元件與所述樣品之間、或定位于所述x射線照射源與所述聚焦光學元件之間、或定位于所述聚焦光學元件與所述樣品之間以及所述x射線照射源與所述聚焦光學元件之間，其中在垂直于所述照射子系統的中心軸線的方向上所述一或多個可移動狹縫或孔徑相對于所述x射線輻射的位置控制所述照射子系統的光學放大率，且其中所述一或多個可移動狹縫或孔徑的開口基于所述一或多個狹縫或孔徑的所述位置而控制從所述聚焦光學元件反射且選自所述x射線輻射的x射線照射射束的發散度，所述x射線照射射束入射于所述受測量樣品上，其中所述一或多個葉片經定位成使得從所述聚焦光學元件反射的X射線照射射束的選定部分的主射線從所述聚焦光學元件的不同部分反射，從而控制光學放大率，所述主射線作為入射在所述樣品上的照射射束；及

計算系統，其經配置以：

將第一命令信號傳遞到所述射束選擇子系統，所述第一命令信號致使至少一個致動器使所述一或多個可移動狹縫或孔徑在垂直于所述照射子系統的所述中心軸線的所述方向上相對于所述x射線輻射移動到與所述照射子系統的所要放大率對應的所要位置且將所述一或多個狹縫或孔徑的所述開口調整到與入射的所述x射線照射射束的所要發散度對應的所要開口；且

將第二命令信號傳遞到所述照射源，所述第二命令信號致使所述照射源改變所述有限發射區域的大小、形狀或大小及形狀兩者；且

所述x射線檢測器經配置以檢測與響應于入射的所述x射線照射射束而從所述受測量樣品散射的輻射量相關聯的強度。

2.根據權利要求1所述的計量系統，其中所述x射線照射源的所述有限發射區域的形狀及大小為可調整的。

3.根據權利要求1所述的計量系統，其中所述第二命令信號還致使所述照射源調整產生所述x射線輻射的電子束的功率。

4.根據權利要求3所述的計量系統，其中所述有限發射區域的所述大小、形狀或大小及形狀兩者的所述改變及對所述電子束的所述功率的所述調整會最大化所產生x射線通量，使得使用由入射的所述x射線照射射束照射的所述樣品的最大可允許區域。

5.根據權利要求1所述的計量系統，其中由入射的所述x射線照射射束照射的所述樣品的所述區域的所要形狀為圓形的或橢圓形的。

6.根據權利要求1所述的計量系統，其中所述射束選擇子系統位于在所述照射源與所述聚焦光學元件之間的所述x射線照射射束的光學路徑、在所述聚焦光學元件與所述樣品之間的所述x射線照射射束的光學路徑或其組合中。

7.根據權利要求1所述的計量系統，其進一步包括：

樣品定位系統，其經配置以使所述受測量樣品相對于入射的所述x射線照射射束以多個入射角定位，其中入射的所述x射線照射射束與垂直于所述受測量樣品的法線之間的角度大于或等于20度。

8.根據權利要求1所述的計量系統，其中所述聚焦光學元件為橢圓形狀的。

9.根據權利要求1所述的計量系統，其中所述照射源與所述一或多個反射表面之間的距離為至少50毫米。

10.根據權利要求1所述的計量系統，其中照射子系統的所述光學放大率介于2到5，4.3到16，或1到8的范圍內。