[發明專利]布線形成方法

有效

• 申請號: 201880011533.6
• 申請日: 2018-02-13
• 公開（公告）號: CN110291849B
• 公開（公告）日: 2023-06-06
• 發明（設計）人: 星野有輝;森元雄大;湯川昇志郎;小島圭介;大村浩之
• 申請（專利權）人: 日產化學株式會社
• 主分類號: H05K3/18
• 分類號: H05K3/18;C08F20/58;C08L33/26;C09D11/037;C09D11/322;C23C18/20;C23C18/26
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍;唐崢

1.布線形成方法，其包括下述A工序及B工序，

A工序：通過在具有親液部和拒液部的基材上噴墨涂布催化劑油墨而使其具備基底層的工序，其中，具有親液部和拒液部的基材為在基材上形成具有親液部和拒液部的膜而成的基材，

B工序：將具備了基底層的基材在無電解鍍浴中浸漬從而形成金屬鍍膜的工序，

其中，具有親液部和拒液部的膜是利用光親拒液部形成組合物而形成的，

所述光親拒液部形成組合物含有：作為(A)成分的、包含來自具有下述式(1)的結構的單體的結構單元的聚合物，作為(B)成分的光產酸劑，及溶劑，

[化學式1]

式(1)中，R¹¹表示氫或甲基，R¹²表示能隨同其所鍵合的氧原子一起脫離的有機基團。

2.如權利要求1所述的布線形成方法，其中，催化劑油墨為包含下述(a)～(c)的布線形成方法油墨，

(a)分散劑，

(b)金屬微粒，

(c)溶劑。

3.如權利要求1所述的布線形成方法，其中，催化劑油墨為包含下述(a)～(c)的布線形成方法油墨，

(a)在分子末端具有銨基且重均分子量為1,000～5,000,000的超支化聚合物，

(b)金屬微粒，

(c)溶劑。

4.如權利要求1所述的布線形成方法，其中，具有親液部和拒液部的膜是利用還含有作為(C)成分的微粒的光親拒液部形成組合物而形成的。

5.如權利要求1所述的布線形成方法，其中，具有親液部和拒液部的膜是相對于催化劑油墨的接觸角在拒液部為30°以上、在親液部為5°以下的圖案形成膜。

6.基材，其是使用權利要求1至5中任一項所述的布線形成方法形成布線而成的。

7.裝置，其具備權利要求6所述的基材。