[發明專利]加工介質、加工組合物及加工方法

有效

• 申請號: 201880008771.1
• 申請日: 2018-01-24
• 公開（公告）號: CN110382655B
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 高梨慎也;會田圭佑;高橋桂
• 申請（專利權）人: 帕萊斯化學株式會社
• 主分類號: C09K3/14
• 分類號: C09K3/14;B24B37/00;C09G1/02;C10M173/02;H01L21/304;C10M129/32;C10M129/52;C10M133/08;C10N40/22
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;唐瑞庭

本發明提供一種兼具防銹性能及防止金屬污染性能的加工介質、加工組合物及加工方法。本發明的加工介質含有或在已中和的狀態下含有碳數為2以上且7以下的多元羧酸、芳香族單羧酸及堿性物質。

技術領域

本發明涉及一種加工介質、加工組合物及加工方法。

背景技術

在進行將錠(鑄塊)等被加工物切割成晶圓狀的加工、或對被加工物的切割面進行研磨(研削)的加工、或進而將被加工物的切割面研磨成鏡面的加工時，對于工具(例如線鋸、帶鋸、內徑刀片、研磨壓盤等)與被加工物的接觸部分供給加工介質(加工液、切削液、冷卻劑)。加工介質用水等溶劑進行稀釋后使用，或進而摻合研磨粒而以加工組合物(研削液、研磨液、漿料)的形式使用。加工介質具有如下作用，即，將在工具與被加工物之間所產生的熱冷卻的冷卻作用；使工具與被加工物之間變得潤滑的潤滑作用；對加工時所產生的顆粒(切屑、研削屑、研磨屑)與工具或被加工物的熔接進行防護的熔接防護作用等。

源自因加工而產生的顆粒的金屬氧化物的微粒子狀污物容易附著(固著、再次附著)于被加工物的表面。若污物附著于被加工物的表面，則導致被加工物的金屬污染。此外，在加工時因與工具、配管等金屬的接觸而溶出至加工介質中的金屬離子容易附著(或滲透、擴散)于被加工物表面。金屬離子于被加工物的表面容易移動，因金屬離子的移動而有時會發生下述等問題：形成于被加工物(例如晶圓)的電晶體等元件的誤動作、漏電流。因此，為了抑制污物或金屬離子對被加工物的不良影響，而提出有各種加工介質、加工組合物。

例如在專利文獻1中，揭示有一種含有伯烷醇胺、羧酸、二胺的水溶性切削油劑作為抑制防銹性降低的物質。此外，在專利文獻2中，揭示有一種由四唑化合物及其水溶性鹽構成的水溶性金屬防蝕劑作為對各種金屬具有優異的防銹能力的物質。

此外，在專利文獻3中，揭示有一種含有螯合劑、堿性化合物、二氧化硅及水的研磨用組合物作為有效地抑制由金屬雜質引起的晶圓污染的物質。此外，在專利文獻4中，揭示有一種含有氧化硅、堿性物質、氨基聚膦酸及水的研磨組合物作為有效地防止鎳、鉻、鐵、銅等的金屬污染的物質。此外，在專利文獻5中，揭示有一種含有氧化硅、堿性物質、氨基酸衍生物、其鹽及水的研磨組合物作為能夠防止金屬污染尤其是銅污染的物質。此外，在專利文獻6中，揭示有一種含有氧化硅、堿性物質、具有羥基的聚氨基聚羧酸化合物及水的研磨組合物作為能夠防止金屬污染尤其是銅污染的物質。此外，在專利文獻7中，揭示有一種含有二氧化硅、堿性化合物及具有膦酸基的螯合劑的研磨用組合物作為有效地抑制由金屬雜質引起的晶圓污染的物質。進而，在專利文獻8中，揭示有一種含有單斜晶鋯、羧酸及氫氧化季烷基銨的研磨漿料作為能夠有效地防止銅污染的物質。

背景技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開昭64-43598號公報

專利文獻2：日本專利特開平7-145491號公報

專利文獻3：國際公開第2004/042812號說明書

專利文獻4：日本專利特開2005-347737號公報

專利文獻5：國際公開第2006/046641號說明書

專利文獻6：國際公開第2006/126432號說明書

專利文獻7：日本專利特開2014-82509號公報

專利文獻8：日本專利第5002175號公報。

發明內容

發明所欲解決的課題

然而，在現有的加工組合物等中并未發現兼具防銹性及防止金屬污染的。

本發明的主要課題在于提供一種兼具防銹性能及防止金屬污染性能的加工介質、加工組合物及加工方法。

解決課題的技術手段