[發明專利]微型分光儀和設置用于對象的光譜分析的方法

在審

• 申請號: 201880007134.2
• 申請日: 2018-01-10
• 公開（公告）號: CN110168414A
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: B.斯坦因;M.胡斯力克;E.鮑姆加特;C.胡貝;R.維斯
• 申請（專利權）人: 羅伯特·博世有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G01J3/02;G01N21/00;G01J3/28;G01J3/45;G01J3/453
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 趙伯俊;劉茜

1.微型分光儀（1000），包括：

-探測單元（3），所述探測單元被設置用于確定電磁輻射的光學量，

-光學單元（1），所述光學單元包括Savart-元件（1'），其中，所述Savart-元件（1'）包括偏光器（10）、第一雙折射元件（12'）和第二雙折射元件（12''）以及分析器（11），和

-光學成像系統（2），所述光學成像系統布置在光路中在所述光學單元（1）和所述探測單元（3）之間，其中，所述光學成像系統（2）被設置用于，使來自所述光學單元（1）的電磁輻射（103'、103''）成像到所述探測單元（3）上，

其特征在于，所述光學成像系統（2）包括多孔物鏡（22），其中，所述多孔物鏡（22）包括多個光學成像通道。

2.根據權利要求1所述的微型分光儀（1000），其特征在于，

-所述多孔物鏡（22）包括至少一個第一光學成像通道和至少一個第二光學成像通道，

-所述探測單元（3）包括至少一個第一傳感器陣列（31）和至少一個第二傳感器陣列（32），并且

-所述第一光學成像通道被設置用于，使來自所述光學單元（1）的電磁輻射的至少一個第一部分（103'）成像到所述第一傳感器陣列上，并且，所述第二光學成像通道被設置用于，使來自所述光學單元（1）的電磁輻射的至少一個第二部分（103''）成像到所述第二傳感器陣列（32）上。

3.根據權利要求2所述的微型分光儀（1000），其特征在于，

-所述多孔物鏡（22）包括至少一個第一微透鏡（6'）和至少一個第二微透鏡（6''），

-所述第一光學成像通道包括所述第一微透鏡（6'），并且，所述第二光學成像通道包括所述第二微透鏡（6''），所述第一光學成像通道被設置用于，使來自所述光學單元（1）的電磁輻射的至少所述第一部分（103'）成像到所述第一傳感器陣列（31）上，所述第二光學成像通道被設置用于，使來自所述光學單元的電磁輻射的至少所述第二部分（103''）成像到所述第二傳感器陣列（32）上。

4.根據權利要求2或者3所述的微型分光儀（1000），其特征在于，所述第一光學成像通道被設置用于，使來自所述光學單元（1）的第一立體角區域（91）的電磁輻射（103'）成像到所述第一傳感器陣列（31）上，并且，所述第二光學成像通道被設置用于，使來自所述光學單元（1）的第二立體角區域（92）的電磁輻射（103''）成像到所述第二傳感器陣列（32）上，其中，所述第一立體角區域（91）至少部分地不同于所述第二立體角區域（92）。

5.根據權利要求2或者3所述的微型分光儀（1000），其特征在于，所述第一光學成像通道被設置用于，使來自所述光學單元（1）的第一立體角區域（91）的電磁輻射成像到所述第一傳感器陣列（31）上，并且，所述第二光學成像通道被設置用于，使來自所述光學單元（1）的第二立體角區域（92）的電磁輻射成像到所述第二傳感器陣列（32）上，其中，所述第一立體角區域（91）和所述第二立體角區域（92）完全一致。

6.根據前述權利要求中任一項所述的微型分光儀（1000），其特征在于，所述光學成像系統（2）包括至少一個孔陣列（51、52、53、54）。