[發(fā)明專利]化學放大型正型光致抗蝕組合物以及圖案形成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201880005596.0
• 申請日: 2018-01-02
• 公開（公告）號: CN110114723B
• 公開（公告）日: 2023-10-20
• 發(fā)明（設計）人: 鈴木理人;河戶俊二;高市哲正;明石一通
• 申請（專利權）人: 默克專利有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/039
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉卓然

1.一種化學放大型正型光致抗蝕組合物，其包含：

(A)與酸進行反應而使得相對于堿性水溶液的溶解度增加的聚合物、

(B)有機溶劑、

(C)選自由XA-ZA、XB-ZA、XB-ZB、XB-ZC、以及XC-ZA組成的組中的第一光酸產(chǎn)生劑、以及

(D)選自由XA-ZB以及XC-ZB組成的組中的第二光酸產(chǎn)生劑：

此處，XA由下式表示，

R^XA-I⁺-R^XA (XA)

式中，R^XA為烷基芳基，各個R^XA可以相同也可不同，

XB由下式表示，

式中，R^XB分別獨立地為非取代芳基、烷基取代芳基、芳基取代芳基、芳基硫基取代芳基、芳氧基取代芳基、非取代烷基、芳基取代烷基、芳基硫基取代烷基、或者芳氧基取代烷基，

XC由下式表示，

式中，R^XC分別獨立地為非取代芳基、烷基取代芳基、芳基取代芳基、芳基硫基取代芳基、芳氧基取代芳基、烷基氧基取代芳基、羥基芳基、烷基氧基烷基取代芳基、羧酸酯基取代芳基、酰氧基取代芳基、非取代烷基、芳基取代烷基、芳基硫基取代烷基、烷基氧基取代烷基、羥基烷基、羧酸酯基取代烷基、或者酰氧基取代烷基，R^XC之中的至少一個是烷基氧基取代芳基、羥基芳基、羧酸酯基取代芳基、酰氧基取代芳基、烷基氧基取代烷基、羥基烷基、羧酸酯基取代烷基、或者酰氧基取代烷基，

ZA由下式表示，

R^ZAS0₃^- (ZA)

式中，R^ZA為氟取代烷基、氟取代烷基醚基、氟取代芳基、氟取代酰基、或者氟取代烷氧基芳基，

ZB由下式表示，

式中，R^ZB分別獨立地為氟取代烷基、氟取代烷基醚基、氟取代芳基、氟取代酰基、或者氟取代烷氧基芳基，另外，2個R^ZB不結合或相互結合而形成氟取代的雜環(huán)結構，

ZC由下式表示，

式中，

R^ZC為氫原子、烷基、烷氧基、或者羥基，

L^ZC為氧基或者羰基氧基，

X^ZC分別獨立地為氫原子或者氟原子，

n^ZC1為0～10，且

n^ZC2為0～21，

并且其中XA、XB、或者XC的正電荷與ZA、ZB或者ZC的負電荷結合。

2.根據(jù)權利要求1所述的組合物，其中，

上述聚合物包含選自由下述(P1)～(P4)組成的組中的重復單元，質(zhì)均分子量為4,000～200,000：

式中，

R^PA為氫原子或者烷基，

R^PB為烷基或者烷基醚基，

R^PC為烷基。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的組合物，其進一步包含(E)堿性有機化合物或者(F)第三光酸產(chǎn)生劑。

4.根據(jù)權利要求1或2所述的組合物，其進一步包含(E)堿性有機化合物與(G)弱酸的組合。

5.根據(jù)權利要求1～4中任一項所述的組合物，其中，第一光酸產(chǎn)生劑為XA-ZA，第二光酸產(chǎn)生劑為XA-ZB。

6.根據(jù)權利要求1～4中任一項所述的組合物，其中，第一光酸產(chǎn)生劑為XB-ZA、XB-ZB、XB-ZC、或者XC-ZA，第二光酸產(chǎn)生劑為XC-ZB。