[實用新型]毫米波/太赫茲波成像設備

有效

• 申請號: 201822275845.8
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN209296948U
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發明（設計）人: 李元景;游燕;趙自然;武劍;馬旭明
• 申請（專利權）人: 清華大學;同方威視技術股份有限公司
• 主分類號: G01V8/10
• 分類號: G01V8/10
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，包括：準光學組件和毫米波/太赫茲波探測器陣列，所述準光學組件適用于將被檢對象自發輻射或反射回來的毫米波/太赫茲波反射并匯聚至所述毫米波/太赫茲波探測器陣列，其中，所述準光學組件包括多棱錐體轉鏡和聚焦透鏡，所述多棱錐體轉鏡的轉軸與被檢對象所在的物面平行，所述多棱錐體轉鏡的每個側面分別設置有反射板，且多個所述反射板與所述多棱錐體轉鏡的轉軸之間的角度是不同的，以使得當所述多棱錐體轉鏡繞所述轉軸旋轉以對位于視場不同水平位置的部分自發輻射或反射回來的毫米波/太赫茲波進行反射時，多個所述反射板分別對所述被檢對象位于所述視場不同豎直位置的部分自發輻射或反射回來的毫米波/太赫茲波進行反射。

2.根據權利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，所述多棱錐體轉鏡上的反射板的數量為m個，其中，6≥m≥3。

3.根據權利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，m個所述反射板與所述轉軸之間的角度沿著所述多棱錐體轉鏡的旋轉方向依次遞增或遞減。

4.根據權利要求3所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，m個所述反射板與所述轉軸之間的角度沿著所述多棱錐體轉鏡的旋轉方向以的增量遞增或遞減，其中θ_m為整個視場豎直范圍所對應的視場角度。

5.根據權利要求4所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，當m為奇數時，m個所述反射板中沿旋轉方向的第1個反射板與所述轉軸之間的角度為α，第個反射板與所述轉軸之間的角度為第個反射板與所述轉軸之間的角度為其中α在30°至60°的范圍內。

6.根據權利要求4所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，當m為偶數時，m個所述反射板中沿旋轉方向的第1個反射板與所述轉軸之間的角度為第個反射板與所述轉軸之間的角度為α第個反射板與所述轉軸之間的角度為

7.根據權利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，還包括驅動裝置，所述驅動裝置適用于驅動所述多棱錐體轉鏡繞所述轉軸進行旋轉運動。

8.根據權利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，所述毫米波/太赫茲波探測器陣列中的多個毫米波/太赫茲波探測器呈線性分布或雙列交錯分布。

9.根據權利要求1-8中的任一項所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，還包括：

數據處理裝置，所述數據處理裝置與所述毫米波/太赫茲波探測器陣列連接以接收來自所述毫米波/太赫茲波探測器陣列的對于被檢對象的掃描數據并生成毫米波/太赫茲波圖像；和

顯示裝置，所述顯示裝置與所述數據處理裝置相連接，用于接收和顯示來自數據處理裝置的毫米波/太赫茲波圖像。

10.根據權利要求9所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其特征在于，還包括校準源，所述校準源在所述準光學組件的物面上，所述數據處理裝置接收來自所述毫米波/太赫茲波探測器陣列的對于所述校準源的校準數據，并基于所述校準數據更新所述被檢對象的圖像數據。

11.根據權利要求10所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其中，所述校準源的長度方向平行于所述反射板的所述轉軸，所述校準源的長度大于等于所述毫米波/太赫茲波探測器陣列在平行于所述轉軸方向上的視場大小。

12.根據權利要求10所述的毫米波/太赫茲波成像設備，其中，所述校準源為吸波材料、黑體或半導體致冷器。