[實(shí)用新型]毫米波/太赫茲波成像設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201822275837.3
• 申請(qǐng)日: 2018-12-29
• 公開（公告）號(hào): CN209296946U
• 公開（公告）日: 2019-08-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙自然;游燕;李元景;馬旭明;武劍;金穎康
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 清華大學(xué);同方威視技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): G01V8/10
• 分類號(hào): G01V8/10
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，包括準(zhǔn)光學(xué)組件和毫米波/太赫茲波探測(cè)器陣列，

所述準(zhǔn)光學(xué)組件適用于將第一被檢對(duì)象和第二被檢對(duì)象自發(fā)輻射或反射回來(lái)的毫米波/太赫茲波反射并匯聚至所述毫米波/太赫茲波探測(cè)器陣列，并包括反射板，所述第一被檢對(duì)象和所述第二被檢對(duì)象分別位于所述反射板的相對(duì)側(cè)處，所述反射板能夠繞其水平軸線轉(zhuǎn)動(dòng)以分別接收并反射來(lái)自所述第一被檢對(duì)象位于第一視場(chǎng)不同豎直位置的部分的毫米波/太赫茲波和所述第二被檢對(duì)象位于第二視場(chǎng)不同豎直位置的部分的毫米波/太赫茲波；以及

所述毫米波/太赫茲波探測(cè)器陣列適用于接收來(lái)自所述準(zhǔn)光學(xué)組件的毫米波/太赫茲波。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，還包括殼體，所述準(zhǔn)光學(xué)組件和所述毫米波/太赫茲波探測(cè)器陣列位于所述殼體內(nèi)，所述殼體的相對(duì)側(cè)壁上分別設(shè)置有供來(lái)自所述第一被檢對(duì)象的毫米波/太赫茲波穿過(guò)的第一窗口和供來(lái)自所述第二被檢對(duì)象的毫米波/太赫茲波穿過(guò)的第二窗口。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，所述反射板的背面設(shè)置有轉(zhuǎn)軸，所述轉(zhuǎn)軸的兩端與所述殼體可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，還包括適用于驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，還包括實(shí)時(shí)檢測(cè)所述反射板的角位移的角位移測(cè)量機(jī)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，還包括：

數(shù)據(jù)處理裝置，所述數(shù)據(jù)處理裝置與所述毫米波/太赫茲波探測(cè)器陣列連接以分別接收來(lái)自所述毫米波/太赫茲波探測(cè)器陣列的對(duì)于所述第一被檢對(duì)象的圖像數(shù)據(jù)和對(duì)于所述第二被檢對(duì)象的圖像數(shù)據(jù)并分別生成毫米波/太赫茲波圖像；和

顯示裝置，所述顯示裝置與所述數(shù)據(jù)處理裝置相連接，用于接收和顯示來(lái)自所述數(shù)據(jù)處理裝置的毫米波/太赫茲波圖像。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，還包括校準(zhǔn)源，所述校準(zhǔn)源在所述準(zhǔn)光學(xué)組件的物面上，所述數(shù)據(jù)處理裝置接收來(lái)自所述毫米波/太赫茲波探測(cè)器陣列的對(duì)于所述校準(zhǔn)源的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)，并基于所接收的所述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)更新所述第一被檢對(duì)象的圖像數(shù)據(jù)和所述第二被檢對(duì)象的圖像數(shù)據(jù)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，所述校準(zhǔn)源的長(zhǎng)度方向平行于所述反射板的所述水平軸線，所述校準(zhǔn)源的長(zhǎng)度大于等于所述毫米波/太赫茲波探測(cè)器陣列在平行于所述水平軸線方向上的視場(chǎng)大小。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，所述校準(zhǔn)源發(fā)射的毫米波/太赫茲波經(jīng)所述反射板反射到所述毫米波/太赫茲波探測(cè)器陣列。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，所述校準(zhǔn)源為吸波材料、黑體或半導(dǎo)體致冷器。

11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，還包括光學(xué)攝像裝置，所述光學(xué)攝像裝置包括適用于采集所述第一被檢對(duì)象的光學(xué)圖像的第一光學(xué)攝像裝置和適用于采集所述第二被檢對(duì)象的光學(xué)圖像的第二光學(xué)攝像裝置，所述第一光學(xué)攝像裝置和所述第二光學(xué)攝像裝置分別與所述顯示裝置連接。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，所述顯示裝置包括顯示屏，所述顯示屏包括適用于顯示所述毫米波/太赫茲波圖像的第一顯示區(qū)以及適用于顯示所述光學(xué)攝像裝置所采集的光學(xué)圖像的第二顯示區(qū)。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的毫米波/太赫茲波成像設(shè)備，其特征在于，還包括報(bào)警裝置，所述報(bào)警裝置與所述數(shù)據(jù)處理裝置連接，以使得當(dāng)所述數(shù)據(jù)處理裝置識(shí)別出所述毫米波/太赫茲波圖像中的可疑物品時(shí)發(fā)出指示該毫米波/太赫茲波圖像存在可疑物品的警報(bào)。