[實用新型]毫米波太赫茲成像設備

有效

• 申請號: 201822275832.0
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN210534350U
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 趙自然;游燕;王迎新;喬靈博;張麗
• 申請（專利權）人: 同方威視技術股份有限公司;清華大學
• 主分類號: G01V8/00
• 分類號: G01V8/00;G01V8/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 楊飛

1.一種用于對被檢對象進行安全檢查的毫米波太赫茲成像設備，其包括聚焦透鏡，微極化片陣列、探測器陣列和圖形處理裝置，其特征在于，

所述聚焦透鏡設置在被檢對象和所述微極化片陣列之間，且被構造為將被檢對象自發輻射或反射回來的毫米波太赫茲波聚焦在所述探測器陣列上；

所述微極化片陣列設置在所述探測器陣列的朝向所述聚焦透鏡的一側且設置為貼近所述探測器陣列；

所述探測器陣列設置在所述聚焦透鏡的焦平面上，且被構造為將透過所述微極化片陣列的毫米波太赫茲波轉化為被檢對象的極化圖像；以及

所述圖形處理裝置設置于所述探測器陣列的遠離所述微極化片陣列的一側，且被構造為處理所述極化圖像以對被檢對象進行識別分類；

其中所述微極化片陣列包括多個微極化片，所述多個微極化片中的每個微極化片被完全極化或部分極化或不被極化。

2.根據權利要求1所述的毫米波太赫茲成像設備，其特征在于，所述探測器陣列包括多個感波單元，多個感波單元的數量與多個微極化片的數量相同，所述探測器陣列上的每個感波單元的位置與所述微極化片陣列上的每個微極化片的位置相對應。

3.根據權利要求1所述的毫米波太赫茲成像設備，還包括毫米波太赫茲輻射源，其用于向被檢對象輻射毫米波太赫茲波。

4.根據權利要求3所述的毫米波太赫茲成像設備，其特征在于，所述微極化片陣列為一維陣列，所述探測器陣列為一維陣列，所述毫米波太赫茲成像設備還包括設置在被檢對象和聚焦透鏡之間的光路中的可旋轉掃描反射鏡。

5.根據權利要求4所述的毫米波太赫茲成像設備，其特征在于，所述可旋轉掃描反射鏡能夠旋轉以在一個特定旋轉角度將被檢對象上的特定部位成像在一維探測器陣列的特定感波單元上。