[實用新型]一種可用于60～350kV范圍內(nèi)的X射線比釋動能絕對測量的電離室

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201822275409.0
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN209606622U
• 公開（公告）日: 2019-11-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張曦
• 申請（專利權(quán)）人: 中國原子能科學研究院
• 主分類號: G01T7/00
• 分類號: G01T7/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張成新

1.一種可用于60～350kV范圍內(nèi)的X射線比釋動能絕對測量的電離室，包括：

屏蔽外殼；

入射光闌，設(shè)置在屏蔽外殼的一個側(cè)壁上；

出口，設(shè)置在屏蔽外殼的與入射光闌相對的另一個側(cè)壁上；

高壓極，設(shè)置在屏蔽外殼內(nèi)，位于入射光闌與出口的中心點連線的一側(cè)；

保護極，設(shè)置在屏蔽外殼內(nèi)，位于入射光闌與出口的中心點連線的與高壓極相對的另一側(cè)，與高壓極平行，保護極內(nèi)設(shè)置有通孔；

收集極，設(shè)置于保護極的通孔內(nèi)，收集極與保護極之間設(shè)置有間隙，并且收集極的上表面與保護極的上表面處于同一平面上；

保護環(huán)，設(shè)置在高壓極的周緣與保護極的周緣之間，包括多個層疊的保護環(huán)單元，將與入射光闌和出口對應(yīng)的位置設(shè)置為可使X射線通過。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電離室，其中屏蔽外殼由鉛、不銹鋼和鋁合金制成，入射光闌由鎢合金制成，高壓極、保護極、收集極和保護環(huán)由鋁合金制成。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電離室，其中屏蔽外殼為包括不銹鋼層-鉛層-不銹鋼層的多層結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電離室，其中設(shè)置入射光闌的側(cè)壁包括不銹鋼層-鉛層-不銹鋼層-鋁合金層的多層結(jié)構(gòu)，并且，不銹鋼層厚度為至少3mm，鉛層厚度為至少10mm，鋁合金層厚度為至少3mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電離室，其中屏蔽外殼為長方體，入射光闌和出口為圓形，高壓極、保護極和收集極為矩形板，保護極內(nèi)部的通孔為矩形。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電離室，其中入射光闌的直徑可以調(diào)節(jié)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電離室，其中入射光闌的直徑可以在5-60mm之間調(diào)節(jié)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電離室，其中入射光闌的直徑為10、20或50mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電離室，其中出口的直徑為入射光闌的1.5-2.5倍。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電離室，其中保護極與收集極之間的間隙為3mm至8mm；

和/或，

保護極和收集極的上表面高度差小于20μm；

和/或

保護極和收集極的表面平整度小于10μm。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電離室，其中保護極與收集極之間的間隙為5mm；

和/或，

保護極和收集極的上表面高度差小于10μm；

和/或

保護極和收集極的表面平整度小于5μm。

12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電離室，其中高壓極和/或保護環(huán)的表面平整度小于10μm。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的電離室，其中高壓極和/或保護環(huán)的表面平整度小于5μm。

14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電離室，其中在入射光闌與出口的中心點連線方向上，高壓極的尺寸大于600mm，小于720mm，保護極的尺寸大于600mm，小于720mm，收集極的尺寸大于120mm，小于180mm；

在垂直于入射光闌與出口的中心點連線且平行于高壓極的方向上，高壓極的尺寸大于500mm，小于620mm，保護極的尺寸大于500mm，小于620mm，收集極的尺寸大于450mm，小于510mm；

高壓極的厚度大于80mm，小于120mm，保護極的厚度大于80mm，小于120mm，收集極的厚度大于15mm，小于30mm；

高壓極與保護極之間的距離大于450mm，小于520mm；

和/或

衰減長度為400至460mm。