[實用新型]一種雙層蒸鍍容器

有效

• 申請號: 201822275229.2
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN209508391U
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: 王穎;戴雷;蔡麗菲
• 申請（專利權）人: 廣東阿格蕾雅光電材料有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京兆君聯合知識產權代理事務所(普通合伙) 11333
• 代理人: 胡敬紅

本實用新型涉及一種雙層蒸鍍容器，其特征在于：為一圓桶形雙層坩堝，所述雙層坩堝的內坩堝壁比外坩堝壁低或等高，兩壁之間有間隙，外坩堝壁的上部開口往外延展出一圈外檐。本實用新型采用雙層結構，減緩了內坩堝內被蒸鍍材料受熱的速度，緩和蒸鍍時材料受熱不均勻的問題；在內坩堝壁與外坩堝壁間留出縫隙，使得Al在沿壁爬升后溢出內坩堝時，會進入兩層坩堝間的緩沖縫隙內，而不會流至外坩堝壁外與加熱絲或電極接觸，避免短路或容器炸裂的問題。

技術領域

本實用新型涉及有機電子發光器件制備器具領域，特別是涉及一種有機或金屬材料蒸鍍用容器。

背景技術

蒸鍍是指在真空環境中，通過加熱材料，使之氣化在基板上沉積成膜的方式，又可稱之為真空蒸鍍。

真空蒸鍍具有非常多的優點，如，可以在金屬、半導體、玻璃等硬基板或塑料、紙張、織物等軟基板上成膜；可控制不同的沉積速率、沉積角度，形成不同顯微結構和結晶形態的薄膜；可精確的在分子層級上控制膜層厚度；膜層純度很高；因此，在OLED器件領域中，目前真空蒸鍍作為主流的鍍膜手段，廣泛的被各大廠商使用。

蒸鍍有機或金屬材料使用的容器為坩堝，通常為單層，上方開口，下方有底的圓柱桶形，然而，現有的坩堝在蒸鍍時，有些材料含有金屬鋁，由于Al的特殊性質，往往容易沿容器內壁爬升并溢至外部，或發生容器炸裂的現象，對蒸發源造成污染和破壞，同樣的，部分有機材料也容易發生噴料或炸料的現象，難以保持蒸鍍時沉積速率的穩定性。

發明內容

針對上述領域中的缺陷，本實用新型提供一種雙層蒸鍍容器，將該容器用于有機或金屬材料蒸鍍，獲得了很好的蒸鍍穩定性，并能有效防止材料發生噴濺或容器炸裂。

雙層蒸鍍容器，為一圓桶形雙層坩堝，其特征在于：所述雙層坩堝的內坩堝壁比外坩堝壁低或等高，兩壁之間有間隙，外坩堝壁的上部開口往外延展出一圈外檐。

所述外檐與外坩堝壁之間圓滑過渡后往外水平延展。

所述兩壁之間的間隙為2-6mm，外檐寬度為4-8mm。

優選：兩壁之間的間隙為2-4mm，外檐寬度為6-8mm，內坩堝壁和外坩堝壁的壁厚為1-2mm。

特別優選：兩壁之間的間隙為2mm，外檐寬度為6mm，內坩堝壁和外坩堝壁的壁厚為1mm。

所述雙層坩堝高度為12-16mm，內坩堝壁內直徑為12-16mm，外坩堝壁內直徑為18-22mm。

所述雙層坩堝高度為15mm，內坩堝內直徑為12mm，外坩堝壁內直徑為18mm。

所述雙層坩堝材質為石英、BN、石墨、Si₃N₄、ZrO₂或SiC。

本實用新型采用雙層結構，減緩內坩堝壁的受熱，從而減緩內坩堝內被蒸鍍材料受熱的速度，緩和蒸鍍時材料受熱不均勻的問題；在內坩堝壁與外坩堝壁間留出縫隙，使得Al在沿壁爬升后溢出內坩堝時，會進入兩層坩堝間的緩沖縫隙內，外檐也會作為進一步的緩沖層，不會流至外坩堝壁外與加熱絲或電極接觸，避免短路或容器炸裂的問題。

附圖說明

圖1本實用新型俯視圖，

圖2圖1中A-A剖面圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型做進一步的詳細說明。

如圖1、2所示，本實用新型雙層蒸鍍容器，為一圓桶形雙層坩堝，所述雙層坩堝的內坩堝壁1與外坩堝壁2之間有間隙，外坩堝壁2的上部開口圓滑過渡后往外延展出一圈外檐3。