[實用新型]一種氟化鈣燒結(jié)用坩堝及結(jié)構(gòu)

有效

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• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN209495552U
• 公開（公告）日: 2019-10-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐超;劉曉陽;張欽輝
• 申請（專利權(quán)）人: 北京首量科技股份有限公司
• 主分類號: F27B14/10
• 分類號: F27B14/10;F27B14/14
• 代理公司: 北京智晨知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11584
• 代理人: 張婧

本實用新型實施方式公開了一種氟化鈣燒結(jié)用坩堝，包括具有一開口的坩堝本體，坩堝本體呈開口寬、底部窄的柱狀結(jié)構(gòu)；坩堝本體的開口處設(shè)置一卡槽，坩堝本體的底部設(shè)置與卡槽形狀、位置適配的卡塊，或坩堝本體的開口處設(shè)置一卡塊，坩堝本體的底部設(shè)置與卡塊形狀、位置適配的卡槽。本實用新型實施方式相對于現(xiàn)有技術(shù)而言，通過層疊設(shè)置的坩堝本體，且坩堝本體之間的緊密貼合，增加了單次燒結(jié)產(chǎn)量的同時避免原料高溫時揮發(fā)，燒結(jié)后的塊料便于打磨及粉碎，有效提高了生產(chǎn)效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及晶體生長領(lǐng)域，特別涉及一種氟化鈣燒結(jié)用坩堝及結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中，氟化物粉料燒結(jié)采用單層坩堝、單溫區(qū)加熱器的方式燒結(jié)，為了提高單次燒結(jié)產(chǎn)量，加熱器高度通常較高，坩堝內(nèi)頂部和底部溫度差異較大，導(dǎo)致當(dāng)坩堝底部原料熔化時，頂部原料揮發(fā)量過大，損失較多。同時單坩堝燒出的塊料體積過大，給后期打磨加工造成不便。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提供一種氟化鈣燒結(jié)用坩堝及結(jié)構(gòu)，增加了單次燒結(jié)產(chǎn)量的同時避免原料高溫時揮發(fā)，燒結(jié)后的塊料便于打磨及粉碎，有效提高了生產(chǎn)效率。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型的實施方式提供了一種氟化鈣燒結(jié)用坩堝，包括具有一開口的坩堝本體，坩堝本體呈開口寬、底部窄的柱狀結(jié)構(gòu)；坩堝本體的開口處設(shè)置一卡槽，坩堝本體的底部設(shè)置與卡槽形狀、位置適配的卡塊，或坩堝本體的開口處設(shè)置一卡塊，坩堝本體的底部設(shè)置與卡塊形狀、位置適配的卡槽。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型的實施方式還提供了一種氟化鈣燒結(jié)用結(jié)構(gòu)，包括如上所述的氟化鈣燒結(jié)用坩堝。

本實用新型實施方式相對于現(xiàn)有技術(shù)而言，通過層疊設(shè)置的坩堝本體，且坩堝本體之間的緊密貼合，增加了單次燒結(jié)產(chǎn)量的同時避免原料高溫時揮發(fā)，燒結(jié)后的塊料便于打磨及粉碎，有效提高了生產(chǎn)效率。

另外，坩堝本體的內(nèi)徑為150～250mm，高100～150mm。

另外，坩堝本體的開口處的卡塊的底壁與側(cè)壁呈一鈍角，坩堝本體底部的卡槽的底壁與側(cè)壁呈一鈍角，且兩個鈍角的角度相同。

另外，若干個坩堝本體由上而下層疊設(shè)置于真空爐內(nèi)，圍繞若干個坩堝本體設(shè)置加熱器，加熱器位于真空爐內(nèi)，坩堝本體的底部位于相鄰的坩堝本體的開口內(nèi)；最頂端的坩堝本體的開口處蓋設(shè)一坩堝蓋。

另外，坩堝本體為3個。

附圖說明

圖1是本實用新型第一實施方式中的坩堝本體的截面圖；

圖2是本實用新型第三實施方式中氟化鈣燒結(jié)用結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為使本實用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本實用新型的各實施方式進(jìn)行詳細(xì)的闡述。然而，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解，在本實用新型各實施方式中，為了使讀者更好地理解本申請而提出了許多技術(shù)細(xì)節(jié)。但是，即使沒有這些技術(shù)細(xì)節(jié)和基于以下各實施方式的種種變化和修改，也可以實現(xiàn)本申請各權(quán)利要求所要求保護(hù)的技術(shù)方案。

本實用新型的第一實施方式涉及一種氟化鈣燒結(jié)用坩堝，如圖1所示，包括具有一開口的坩堝本體1，坩堝本體1呈開口寬、底部窄的柱狀結(jié)構(gòu)；坩堝本體1的開口處設(shè)置一卡塊1-1，坩堝本體的底部設(shè)置與卡塊1-1形狀、位置適配的卡槽1-2。

具體地，坩堝本體的內(nèi)徑為150～250mm，高100～150mm。

優(yōu)選地，坩堝本體1的開口處的卡塊的底壁與側(cè)壁呈一鈍角a，坩堝本體1的底部的卡槽的底壁與側(cè)壁呈一鈍角b，且兩個鈍角的角度相同。