[實用新型]一種室內覆巖離層量測量及注漿控制模擬系統

有效

• 申請號: 201822246137.1
• 申請日: 2018-12-28
• 公開（公告）號: CN209590015U
• 公開（公告）日: 2019-11-05
• 發明（設計）人: 張文泉;王在勇;朱先祥;李偉;高兵;白斌
• 申請（專利權）人: 山東科技大學
• 主分類號: G01N33/24
• 分類號: G01N33/24
• 代理公司: 西安銘澤知識產權代理事務所(普通合伙) 61223
• 代理人: 李振瑞

1.一種室內覆巖離層量測量及注漿控制模擬系統，其特征在于，包括二維試驗臺(24)，所述二維試驗臺(24)內從下至上依次設置煤層(12)、直接頂(11)、基本頂(10)、軟巖層一(8)、關鍵層一(7)、軟巖層二(6)、關鍵層二(5)、軟巖層三(4)、關鍵層三(3)、松散層(2)，松散層(2)上表面設置加載裝置(1)，在所述關鍵層三(3)和軟巖層三(4)之間設有觀測線一(17)和觀測線二(18)，關鍵層二(5)和軟巖層二(6)之間設有觀測線三(20)和觀測線四(21)、關鍵層一(7)和軟巖層一(8)之間設有觀測線五(22)和觀測線六(23)；觀測線一(17)、觀測線三(20)和觀測線五(22)分別埋在三個關鍵層內的最底部區域，觀測線二(18)、觀測線四(21)和觀測線六(23)分別埋在三個軟巖層內的最頂部區域；從松散層(2)表面分別插入用于注入漿液(13)的注漿套管，注漿套管包括一級套管(14)、二級套管(15)以及三級套管(16)，其中一級套管(14)的下端插入到所述關鍵層一(7)和軟巖層一(8)的交界面處，對應于關鍵層一(7)和軟巖層一(8)之間的離層空間(19)，二級套管(15)的下端插入到所述關鍵層二(5)和軟巖層二(6)的交界面處，對應于關鍵層二(5)和軟巖層二(6)之間的離層空間(19)，三級套管(16)的下端插入到所述關鍵層三(3)和軟巖層三(4)的交界面處，對應于關鍵層三(3)和軟巖層三(4)之間的離層空間(19)。

2.如權利要求1所述的一種室內覆巖離層量測量及注漿控制模擬系統，其特征在于，所述二級套管(15)套設于一級套管(14)外，三級套管(16)套設于二級套管(15)外；所述注漿套管的下端位于該注漿套管所對應層所生成的離層空間(19)的中心位置處，以便于向兩側空間同時注漿。

3.如權利要求1所述的一種室內覆巖離層量測量及注漿控制模擬系統，其特征在于，所述加載裝置(1)是通過施力機構施加力到其上的剛性板體，該剛性板體將力傳遞給所述松散層(2)，用于模擬上部地層產生的重力環境。

4.如權利要求1所述的一種室內覆巖離層量測量及注漿控制模擬系統，其特征在于，每條觀測線均由19個從左至右布置的觀測點組成，且相鄰觀測點之間的間距相等。