[實用新型]光壓可調(diào)的光學(xué)勢阱形成裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201822242494.0 | 申請日： | 2018-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN209514200U | 公開（公告）日： | 2019-10-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳凡;張俊飛;陳小林;王旭成 | 申請（專利權(quán)）人： | 復(fù)拓科學(xué)儀器（蘇州）有限公司 |
| 主分類號： | G02B21/32 | 分類號： | G02B21/32 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 張俊范 |
| 地址： | 215500 江蘇省蘇州市常熟市高新*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué)勢阱 本實用新型 光調(diào)制模塊 光學(xué)分束器 光調(diào)制器 聚焦物鏡 所述空間 形成裝置 漸變光 可調(diào)的 強衰減 調(diào)制 空間光調(diào)制器 光學(xué)準直器 光斑 強度空間 相位分布 依次設(shè)置 激光器 光路 反射 捕獲 粒子 | ||
1.一種光壓可調(diào)的光學(xué)勢阱形成裝置，其特征在于，包括依照光路方向依次設(shè)置的激光器、光學(xué)準直器、光學(xué)分束器、光調(diào)制模塊和聚焦物鏡，所述光調(diào)制模塊包括空間光調(diào)制器和漸變光強衰減片，所述空間光調(diào)制器接收由所述光學(xué)分束器反射的光并調(diào)制，由所述空間光調(diào)制器調(diào)制的光經(jīng)過所述漸變光強衰減片后進入所述聚焦物鏡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光壓可調(diào)的光學(xué)勢阱形成裝置，其特征在于，所述空間光調(diào)制器包括框架和若干調(diào)制單元，所述調(diào)制單元以二維陣列方式排列并固定于所述框架，所述調(diào)制單元接收控制信號控制對照射于所述調(diào)制單元表面的光波進行相位、偏振態(tài)、振幅或強度調(diào)制。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光壓可調(diào)的光學(xué)勢阱形成裝置，其特征在于，所述光學(xué)分束器反射的光以垂直于所述調(diào)制單元的二維陣列的陣列平面入射所述空間光調(diào)制器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光壓可調(diào)的光學(xué)勢阱形成裝置，其特征在于，所述漸變光強衰減片為各區(qū)域光吸收系數(shù)不同的濾波片。
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