[實用新型]離子注入設備

有效

• 申請號: 201822235084.3
• 申請日: 2018-12-28
• 公開（公告）號: CN209804588U
• 公開（公告）日: 2019-12-17
• 發明（設計）人: 徐義;張時閣
• 申請（專利權）人: 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01L31/18
• 代理公司: 11477 北京尚倫律師事務所
• 代理人: 謝麗莎

1.一種離子注入設備，應用于銅銦鎵硒CIGS薄膜制備裝置，所述制備裝置包括工藝腔，所述工藝腔用于在基板上形成CIGS薄膜以得到CIGS薄膜基板，其特征在于，所述離子注入設備包括：

離子容置腔，位于所述工藝腔內，所述離子容置腔包括釋放口，所述釋放口位于所述CIGS薄膜基板的下方，朝向所述CIGS薄膜；

離子發生構件，位于所述離子容置腔內，用于在所述離子容置腔內產生堿金屬離子；

離子加速構件，位于所述工藝腔內，用于對所述離子發生構件產生的所述堿金屬離子進行加速，使得所述堿金屬離子從所述釋放口射出，射向所述CIGS薄膜。

2.根據權利要求1所述的離子注入設備，其特征在于，所述離子發生構件包括：

堿金屬靶材，位于所述離子容置腔內；

直流脈沖電源接口，用于連接直流脈沖電源，所述直流脈沖電源接口的陽極連接所述工藝腔的殼體，所述直流脈沖電源接口的陰極連接所述堿金屬靶材；

導管，所述導管的一端連通所述離子容置腔，另一端連通至所述工藝腔外部，用于向所述離子容置腔內導入惰性氣體。

3.根據權利要求2所述的離子注入設備，其特征在于，

所述堿金屬靶材包括臥式靶材。

4.根據權利要求3所述的離子注入設備，其特征在于，所述臥式靶材包括圓柱臥式旋轉靶材；所述離子注入設備還包括：

控制器；

電機，連接所述控制器和所述圓柱臥式旋轉靶材，用于在所述控制器的控制下帶動所述圓柱臥式旋轉靶材旋轉。

5.根據權利要求1所述的離子注入設備，其特征在于，所述釋放口位于所述離子容置腔的頂部；所述離子加速構件還包括：

線圈，螺旋纏繞在所述離子容置腔的外壁；

脈沖電源接口，用于連接脈沖電源，所述脈沖電源接口的兩端分別連接所述線圈的兩端，用于使所述線圈產生磁場，所述磁場用于對所述離子容置腔內的堿金屬離子進行加速，使所述堿金屬離子從所述釋放口射出。

6.根據權利要求5所述的離子注入設備，其特征在于，所述離子加速構件還包括：

接地金屬板，位于所述CIGS薄膜基板的所述CIGS薄膜所在面的相對面與工藝腔的頂部之間，與所述CIGS薄膜基板平行。

7.根據權利要求1所述的離子注入設備，其特征在于，所述離子注入設備包括兩個所述離子容置腔以及分別位于兩個所述離子容置腔內的兩個所述離子發生構件；其中兩個所述離子容置腔的所述釋放口以一定的角度相對；

所述離子加速構件包括粒子對撞器，所述粒子對撞器上設置有輸入口和輸出口，所述輸入口連通兩個所述離子容置腔的釋放口，所述粒子對撞器用于使從所述輸入口輸入的產生于兩個所述離子容置腔的所述堿金屬離子進行加速后對撞，并使對撞后的堿金屬離子從所述輸出口射出，射向所述CIGS薄膜。