[實用新型]一種抗氧化抗腐蝕的鏡片有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201822229905.2 | 申請日： | 2018-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN209182540U | 公開（公告）日： | 2019-07-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 楊敏男;吳富章 | 申請（專利權(quán)）人： | 廈門美瀾光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B1/14 | 分類號： | G02B1/14;G02B1/04;G02C7/10;B32B17/00;B32B17/06;B32B33/00 |
| 代理公司： | 廈門市精誠新創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35218 | 代理人： | 劉小勤 |
| 地址： | 361022 福建省廈門市海*** | 國省代碼： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 抗氧化 抗腐蝕 鏡片 金屬氧化物層 本實用新型 抗腐蝕層 變色層 打底層 膜層 低折射率薄膜層 圖案 硅鋁混合物 依次層疊 由內(nèi)向外 保護層 褪色 硒層 佩戴 視線 | ||
1.一種抗氧化抗腐蝕的鏡片，包括基片和設(shè)置在所述基片外表面的膜層，其特征在于：所述膜層包括由內(nèi)向外依次層疊的打底層、抗氧化抗腐蝕層、變色層和保護層，所述打底層由第一硅鋁混合物層和第二金屬氧化物層組成；所述抗氧化抗腐蝕層由第四硒層和第五金屬氧化物層組成，所述變色層由1-7層的金屬氧化物層和低折射率薄膜層交替組成；
其中，所述第二金屬氧化物層、第五金屬氧化物層為ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一種形成的鍍層；且所述金屬氧化物層為ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一種形成的鍍層，所述低折射率薄膜層為SiO2、真空鍍膜材料L5或MgF2中的任意一種形成的鍍層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化抗腐蝕的鏡片，其特征在于：所述基片為亞克力基片、聚碳酸酯基片、尼龍基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一種；所述第一硅鋁混合物層為真空鍍膜材料L5形成的鍍層，所述保護層為防水材料形成的鍍層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化抗腐蝕的鏡片，其特征在于：所述打底層中所述第一硅鋁混合物層的厚度為50-150埃米；所述第二金屬氧化物層的厚度為100-200埃米；所述抗氧化抗腐蝕層中的第四硒層厚度為200-400埃米，第五金屬氧化物層厚度為100-1900埃米；所述變色層的厚度為1000-4000埃米；所述保護層的厚度為10-280埃米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的抗氧化抗腐蝕的鏡片，其特征在于：所述打底層和所述抗氧化抗腐蝕層之間還設(shè)有圖案層，所述圖案層由圖案和第三硅鋁混合物層組成，其中所述圖案層中的圖案為油墨印刷圖案、銅模板貼合圖案或靜電貼貼合圖案中的任意一種；所述第三硅鋁混合物層為真空鍍膜材料L5形成的鍍層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的抗氧化抗腐蝕的鏡片，其特征在于：所述的抗氧化抗腐蝕的鏡片包括依次層疊的基片、第一硅鋁混合物層、第二金屬氧化物層、圖案、第三硅鋁混合物層、第四硒層、第五金屬氧化物層、第六低折射率薄膜層和防水層，其中第六低折射率薄膜層為SiO2、真空鍍膜材料L5或MgF2中的任意一種形成的鍍層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的抗氧化抗腐蝕的鏡片，其特征在于：所述打底層中第一硅鋁混合物層厚度為80埃米，第二金屬氧化物層厚度為120埃米，第三硅鋁混合物層厚度為100埃米，第四硒層的厚度為200埃米，第五金屬氧化物層厚度為950埃米，第六低折射率薄膜層厚度為1000埃米，防水層厚度為150埃米。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的抗氧化抗腐蝕的鏡片，其特征在于：所述的抗氧化抗腐蝕的鏡片包括依次層疊的基片、第一硅鋁混合物層、第二金屬氧化物層、圖案、第三硅鋁混合物層、第四硒層、第五金屬氧化物層、第六低折射率薄膜層、第七金屬氧化物層、第八低折射率層和防水層，其中第七金屬氧化物層為ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一種形成的鍍層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的抗氧化抗腐蝕的鏡片，其特征在于：所述打底層中第一硅鋁混合物層的厚度為100埃米，第二金屬氧化物層的厚度為150埃米；所述圖案層中第三硅鋁混合物層的厚度為150埃米；所述抗氧化抗腐蝕層中的第四硒層厚度為300埃米，第五金屬氧化物層厚度為300埃米；所述變色層中第六低折射率薄膜層厚度為1500埃米，第七金屬氧化物層厚度為200埃米，第八低折射率層厚度為900埃米；所述保護層的厚度為200埃米。
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