[實用新型]減少薄膜晶格缺陷的裝置有效

申請號：	201822208580.X	申請日：	2018-12-26
公開（公告）號：	CN209328933U	公開（公告）日：	2019-08-30
發明（設計）人：	范繼良	申請（專利權）人：	黃劍鳴
主分類號：	H01L31/18	分類號：	H01L31/18
代理公司：	廣州三環專利商標代理有限公司 44202	代理人：	張艷美;王志
地址：	中國香港新界大埔***	國省代碼：	中國香港;81
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摘要：
搜索關鍵詞：	物鏡直線往復運動反射鏡脈沖式激光發射器薄膜晶格硅片脈沖激光照射本實用新型反射鏡設置薄膜原子表面缺陷滑動設置轉換效率懸掛鍵減小正對沉積薄膜聚焦掃描電池
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【權利要求書】：

1.一種減少薄膜晶格缺陷的裝置，其特征在于，包括機架、脈沖式激光發射器、X軸移動平臺、Y軸移動平臺、反射鏡及物鏡，所述脈沖式激光發射器設置于所述機架上，X軸移動平臺呈水平的滑動設置于所述機架上，所述X軸移動平臺借由一第一直線往復驅動機構驅動其可沿X軸方向進行直線往復運動，所述Y軸移動平臺呈水平的滑動設置于所述機架上，所述Y軸移動平臺借由一第二直線往復驅動機構驅動其可沿Y軸方向進行直線往復運動，所述X軸移動平臺位于所述Y軸移動平臺下方，所述X軸方向與所述Y軸方向相互垂直，所述反射鏡及所述物鏡連接于所述Y軸移動平臺上，所述脈沖式激光發射器沿Y軸方向正對所述反射鏡設置且二者位于同一水平面，所述物鏡位于所述反射鏡的正下方，所述物鏡位于所述X軸移動平臺的上方，所述脈沖式激光發射器發射出的脈沖激光經所述反射鏡反射后射入所述物鏡中，射入所述物鏡的脈沖激光從所述物鏡中折射后進行聚焦。

2.如權利要求1所述減少薄膜晶格缺陷的裝置，其特征在于，還包括X軸導軌，所述X軸導軌沿所述X軸方向設置于所述機架上，所述X軸移動平臺呈滑動的設置于所述X軸導軌上。

3.如權利要求1所述減少薄膜晶格缺陷的裝置，其特征在于，還包括Y軸導軌，所述Y軸導軌沿所述Y軸方向設置于所述機架上，所述Y軸移動平臺呈滑動的設置于所述Y軸導軌上。

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