[實用新型]一種P型單晶硅電池正面鍍膜結構有效
| 申請號: | 201822208379.1 | 申請日: | 2018-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN209328908U | 公開(公告)日: | 2019-08-30 |
| 發明(設計)人: | 霍亭亭;魏青竹;倪志春;連維飛;胡黨平 | 申請(專利權)人: | 蘇州騰暉光伏技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/0224;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京精金石知識產權代理有限公司 11470 | 代理人: | 張黎 |
| 地址: | 215542 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電池正面 本實用新型 鍍膜結構 第三層 第一層 正面膜 晶硅 空穴 多晶硅膜層 載流子復合 表面復合 層厚度 多晶硅 接觸處 銀柵線 正表面 減小 少子 沉積 電池 遷移 | ||
1.一種P型單晶硅電池正面鍍膜結構,包括晶硅正面膜,所述晶硅正面膜包括在所述P型單晶硅電池正面依次沉積的磷擴散層,SiO2層,摻P多晶硅層,SiNx層,銀電極柵線;其特征在于,摻P多晶硅層在銀電極柵線處局部沉積,SiNx層整面沉積在最外層;其中,磷擴散層的上邊緣呈直線形或波浪形;SiO2層呈直線形或波浪形,且與磷擴散層的上邊緣形狀相同。
2.根據權利要求1所述的P型單晶硅電池正面鍍膜結構,其特征在于,所述SiO2層的厚度為1-4nm;所述摻P多晶硅層的厚度為10-30nm;所述SiNx層的厚度為60-100nm。
3.根據權利要求1所述的P型單晶硅電池正面鍍膜結構,其特征在于,所述銀電極柵線為絲網印刷,銀電極柵線包括正面主柵和正面細柵。
4.根據權利要求3所述的P型單晶硅電池正面鍍膜結構,其特征在于,所述摻P多晶硅層的圖形和絲網印刷的銀電極柵線的圖形相配合,使后續印刷的銀電極柵線套印在沉積的摻P多晶硅層圖形內;所述摻P多晶硅層的寬度和長度均大于正面銀電極柵線;
其中,摻P多晶硅在細柵處的寬度比細柵的寬度多0.008-0.02mm,在細柵處的長度比細柵的長度多0.6-0.85mm,在主柵處的寬度比主柵的寬度多0.2-0.3mm,長度比主柵的長度多2.71-3.71mm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





