[實用新型]一種真空鍍膜設備

有效

• 申請號: 201822208035.0
• 申請日: 2018-12-27
• 公開（公告）號: CN209428592U
• 公開（公告）日: 2019-09-24
• 發明（設計）人: 蔣貴霞;賈建國
• 申請（專利權）人: 昆山英利悅電子有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

1.一種真空鍍膜設備，其特征在于，包括：

鍍膜室，所述鍍膜室為雙層結構，包括外層和內層；

磁控濺射機，所述磁控濺射機設于所述鍍膜室內層頂部的中間位置；

第一驅動單元和第二驅動單元；所述第一驅動單元和第二驅動單元相對設置，均位于鍍膜室的外層和內層之間，二者的輸出軸分別貫穿鍍膜室內層上位于同一方向上的兩個側壁；

第一固定件和第二固定件，所述第一固定件和第二固定件的一端分別與所述第一驅動單元和第二驅動單元的輸出軸相連；

基材放置件，所述基材放置件的兩端分別與所述第一固定件和第二固定件的另一端相連，其包括上蓋、下蓋和彈性板，所述上蓋和下蓋的四周分別設有第一外延邊和第二外延邊，當二者蓋合時，所述第一外延邊與第二外延邊貼合；所述上蓋和下蓋上均設有若干個通孔；所述彈性板設于所述上蓋與下蓋之間，其包括板體，所述板體的兩側均設有若干個翹起的彈片，各彈片的位置分別與上蓋或下蓋上對應的通孔相適應。

2.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜設備，其特征在于：所述彈片的橫截面為圓形，其一端與所述板體固定相連，另一端處于翹起狀態，用于與基材之間實現點接觸。

3.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜設備，其特征在于：所述彈片的橫截面為矩形，其一端與所述板體固定相連，另一端處于翹起狀態，用于與基材之間實現線接觸。

4.根據權利要求2或3所述的一種真空鍍膜設備，其特征在于：所述彈片的厚度為0.1mm至5mm。

5.根據權利要求2或3所述的一種真空鍍膜設備，其特征在于：所述彈片由銦鉈合金、鎳鈦合金或者銅鋁鎳合金制成。

6.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜設備，其特征在于：所述上蓋和下蓋上的通孔的位置相對應或者不對應。

7.根據權利要求1或6所述的一種真空鍍膜設備，其特征在于：所述上蓋和下蓋上的通孔的橫截面為圓形或者矩形。

8.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜設備，其特征在于：所述基材放置件與鍍膜室之間為間隙配合。

9.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜設備，其特征在于：所述上蓋和下蓋上均設有把手。