[實用新型]一種高純三氧化硫提純設備有效
| 申請號: | 201822201004.2 | 申請日: | 2018-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN209815695U | 公開(公告)日: | 2019-12-20 |
| 發明(設計)人: | 阮汝明 | 申請(專利權)人: | 江蘇達諾爾科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C01B17/90 | 分類號: | C01B17/90 |
| 代理公司: | 32313 蘇州誠逸知識產權代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人: | 高娟 |
| 地址: | 215500 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 花盤 三氧化硫氣體 本實用新型 塔體 柵板 噴頭 高效低成本 噴頭安裝 三氧化硫 提純設備 通氣裝置 體內部 高純 液封 加熱 凈化 | ||
本實用新型公開了一種高純三氧化硫提純設備,包括:塔體,安裝在所述塔體內部的花盤和噴頭,所述花盤上安裝有填料,所述噴頭安裝在所述填料的上方,加熱后的三氧化硫氣體由塔體下方進入塔內,所述花盤由柵板、以及安裝在所述柵板上的一強制液封和若干通氣裝置組成。通過上述方式,本實用新型能夠提高三氧化硫氣體的凈化純度,且能夠達到高效低成本的效果。
技術領域
本實用新型涉及化學品提純設備領域,特別是涉及一種高純三氧化硫提純設備。
背景技術
對于濕化學品的基本要求是超凈和高純。它廣泛用于超大規模集成電路,大屏幕、超薄高清晰度液晶顯示器制造、太陽能電池硅片制備等微電子工業中。它在半導體芯片、太陽電池硅片、液晶顯示面板加工中起到清洗或蝕刻的兩大功效,達到清除品晶圓表面殘留的有機污染物,降低金屬雜質的殘留量的目的。
超凈高純級硫酸為強酸性清洗、腐蝕劑,在集成電路制作過程中應用最多,主要用于超大規模集成電路工藝技術的生產,目前超凈高純硫酸占濕電子化學品份額的16%左右。而生產超凈高純硫酸的關鍵就是如何制取高純三氧化硫。傳統的制取高純三氧化硫為精餾,但精餾產能不大且能耗較大而氣體吸收雖然產能大幅度提高了但是三氧化硫的一次凈化純度達不到高純要求。
實用新型內容
本實用新型主要解決的技術問題是:針對現有技術的不足,提供一種高純三氧化硫提純設備,能夠提高三氧化硫氣體的凈化純度,且能夠達到高效低成本的效果。
為解決上述技術問題,本實用新型采用的一個技術方案是:提供一種高純三氧化硫提純設備,包括:塔體,安裝在所述塔體內部的花盤和噴頭,所述花盤上安裝有填料,所述噴頭安裝在所述填料的上方,加熱后的三氧化硫氣體由塔體下方進入塔內,所述花盤由柵板、以及安裝在所述柵板上的一強制液封和若干通氣裝置組成。
在本實用新型一個較佳實施例中,所述強制液封由液封管和液封槽組成,所述液封管可調節高度地插設在所述液封槽內。
在本實用新型一個較佳實施例中,所述通氣裝置由通氣管、套設在所述通氣管上的泡罩、安裝在所述通氣管頭端的堵頭、以及固定所述通氣管和泡罩的螺母。
在本實用新型一個較佳實施例中,所述強制液封位于所述若干通氣裝置的中間位置。
在本實用新型一個較佳實施例中,所述塔體的材質為PTFE。
在本實用新型一個較佳實施例中,所述花盤的材質為PTFE。
在本實用新型一個較佳實施例中,所述填料的材質為PTFE。
在本實用新型一個較佳實施例中,所述噴頭的材質為PTFE。
本實用新型的有益效果是:通過采用特殊結構設計的花盤,能夠使上升的三氧化硫氣體與液封里面的超純洗滌液充分接觸,使三氧化硫氣體經過高純度液封進行一次洗滌,再經過填料進行二次提純,從而達到凈化三氧化硫的要求,并且使二次提純后的三氧化硫氣體達到高純;本設備集多次純化設備為一體,從而達到高效低成本的效果。
附圖說明
圖1是本實用新型一種高純三氧化硫提純設備的結構示意圖;
圖2是圖1所示花盤的結構示意圖;
圖3是圖2所示通氣裝置的結構示意圖;
附圖中各部件的標記如下:1、塔體,2、花盤,21、柵板,22、液封管,23、液封槽,24、通氣裝置,241、通氣管,242、泡罩,243、堵頭,244、螺母,3、填料,4、噴頭。
具體實施方式
下面結合附圖對本實用新型的較佳實施例進行詳細闡述,以使本實用新型的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解,從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。
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