[實(shí)用新型]光束成像裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201822196530.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209103032U | 公開(公告)日: | 2019-07-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 田立飛;劉敬偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中科天芯科技(北京)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/01 | 分類號(hào): | G02F1/01 |
| 代理公司: | 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250 | 代理人: | 李博洋 |
| 地址: | 100009 北京*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖形層 包層 光束成像 電極層 本實(shí)用新型 兩側(cè)設(shè)置 直接設(shè)置 制備過(guò)程 上表面 | ||
本實(shí)用新型公開了一種光束成像裝置,包括:圖形層、設(shè)置于圖形層兩側(cè)的包層、以及直接接觸設(shè)置于圖形層一側(cè)的包層表面上的電極層。該光束成像裝置,圖形層的兩側(cè)設(shè)置有包層,電極層直接設(shè)置于圖形層一側(cè)的包層上表面,與包層直接接觸,制備過(guò)程簡(jiǎn)單、便捷、易操作。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種光束成像裝置。
背景技術(shù)
光束成像裝置是激光雷達(dá)的核心部分,在汽車無(wú)人駕駛和安防環(huán)境監(jiān)測(cè)方面具有優(yōu)異的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)。傳統(tǒng)的光束成像裝置一般采用棱鏡,不利于集成化。現(xiàn)有光束成像裝置中采用半導(dǎo)體集成電路代替棱鏡裝置,具有體積小、價(jià)格低和便于集成化的優(yōu)點(diǎn)。
現(xiàn)有的光束成像裝置的圖形層包括多個(gè)圖形單元,多個(gè)圖形單元之間通過(guò)鈍化層進(jìn)行隔離,在鈍化層上設(shè)置開口以暴露圖形單元,并在開口處形成電極層,使得電極層與圖形單元接觸以對(duì)圖形層中的傳輸?shù)墓膺M(jìn)行調(diào)制,制備過(guò)程較復(fù)雜。
實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于此,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種光束成像裝置,以解決現(xiàn)有技術(shù)中光束成像裝置制備復(fù)雜的問(wèn)題。
本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種光束成像裝置,包括:圖形層、設(shè)置于所述圖形層兩側(cè)的包層、以及直接接觸設(shè)置于所述圖形層一側(cè)的包層表面上的電極層。
可選地,還包括:襯底層,設(shè)置在所述圖形層另一側(cè)的包層表面上。
可選地,所述圖形層的折射率大于所述包層的折射率。
可選地,所述電極層在所述圖形層上的投影至少覆蓋所述圖形層。
可選地,所述圖形層包括多個(gè)平行且間隔設(shè)置的圖形單元。
可選地,所述圖形單元的形狀包括長(zhǎng)方體、圓柱、圓錐或者圓環(huán)。
可選地,所述圖形單元的形狀為長(zhǎng)方體,所述長(zhǎng)方體的厚度為20nm-5000nm,寬度為20nm-5000nm。
可選地,相鄰所述圖形單元的間距為20nm-5000nm。
可選地,所述圖形層的折射率高于2.3。
可選地,所述包層和/或所述圖形層中的至少一個(gè)的禁帶寬度不小于2.3eV。
本實(shí)用新型提出的技術(shù)方案,具有如下優(yōu)點(diǎn):
本實(shí)用新型實(shí)施例提供的光束成像裝置,包括:圖形層、設(shè)置于圖形層兩側(cè)的包層、以及直接接觸設(shè)置于圖形層一側(cè)的包層表面上的電極層。上述光束成像裝置,圖形層的兩側(cè)設(shè)置有包層,電極層直接設(shè)置于圖形層一側(cè)的包層上表面,與包層直接接觸,制備過(guò)程簡(jiǎn)單、便捷、易操作。并且包層將光波限制在圖形層中傳輸,降低傳輸損耗,提高了光傳輸效率。
附圖說(shuō)明
為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖是本實(shí)用新型的一些實(shí)施方式,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例中光束成像裝置的一個(gè)具體示例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例中光束成像裝置的另一個(gè)具體示例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例中光束成像裝置的另一個(gè)具體示例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例中光束成像裝置的另一個(gè)具體示例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例中光束成像裝置的另一個(gè)具體示例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例中光束成像裝置的另一個(gè)具體示例的結(jié)構(gòu)示意圖。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





