[實用新型]一種納米鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201822187781.6
• 申請日: 2018-12-25
• 公開（公告）號: CN209555355U
• 公開（公告）日: 2019-10-29
• 發明（設計）人: 張建坡
• 申請（專利權）人: 超微中程納米科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257
• 代理人: 楊慧林

本實用新型公開了一種納米鍍膜裝置，包括主體板，所述主體板的上表面從右到左依次固定連接有盛料箱、分子泵、真空泵和鍍膜箱，盛料箱的底端設有放置槽，放置槽內設有電加熱管，盛料箱設有滑動槽，滑動槽位于放置槽的上側，滑動槽內滑動連接有填料板，填料板上設有加熱孔，填料板的前側固定連接有密封板，所述盛料箱上設有四個出料口，該納米鍍膜裝置，通過低溫泵對加熱升華后的鍍膜材料進行降溫，避免在鍍膜時鍍膜材料溫度過高發生膜層結構變化或者鍍膜材料產生分解，影響鍍膜質量，通過殘料收集箱對產品鍍膜時滴落的鍍膜材料進行收集，避免鍍膜材料四處滴落，影響工作人員后期的清理。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，具體為一種納米鍍膜裝置。

背景技術

目前，許多工業產品表面都鍍有功能薄膜以改善產品表面的各種性能。如在光學鏡片的表面鍍上一層抗反射膜，以降低鏡片表面的反射率，降低入射光經過鏡片的能量損耗。又如于某些濾光組件表面鍍上一層濾光膜制成濾光片，其可過濾掉一預定波段的光。一般地，鍍膜方法主要包括蒸鍍法、離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、化學氣相沉積法等。傳統的蒸鍍方法是將待鍍膜基材放置于傘形基板上，然后使氣態或離子態的膜料沉積于待鍍膜基材上表面形成薄膜。然而，加熱后的鍍膜材料具有高溫，在鍍膜過程中鍍膜材料溫度過高的會出現膜層結構變化或者鍍膜材料產生分解，影響鍍膜質量。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是克服現有的缺陷，提供一種納米鍍膜裝置，有效的降低鍍膜材料的溫度，避免鍍膜材料發生膜層結構變化或者鍍膜材料產生分解，可以有效解決背景技術中的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種納米鍍膜裝置，包括主體板，所述主體板的上表面從右到左依次固定連接有盛料箱、分子泵、真空泵和鍍膜箱，盛料箱的底端設有放置槽，放置槽內設有電加熱管，盛料箱設有滑動槽，滑動槽位于放置槽的上側，滑動槽內滑動連接有填料板，填料板上設有加熱孔，填料板的前側固定連接有密封板，所述盛料箱上設有四個出料口，盛料箱的出料口通過吸氣管與合流管的進料口連接，合流管的出料口通過第一連接管與分子泵的進料口連接，所述主體板的上表面固定連接有低溫泵，低溫泵位于真空泵的后側，低溫泵的進料口通過第二連接管與分子泵的出料口連接，真空泵的進氣口通過第四連接管與鍍膜箱的出氣口連接，所述鍍膜箱的上側設有安置槽，安置槽內設有噴灑管，噴灑管上設有等距出料口，噴灑管的出料口與噴頭的進料口連接，所述噴灑管的進料口通過分流管與第三連接管的出料口連接，第三連接管的進料口與低溫泵的出料口連接，所述鍍膜箱內設有滑槽，滑槽內滑動連接有盛放板，盛放板上設有排料口，鍍膜箱內設有殘料收集箱，殘料收集箱的位置與盛放板的位置相對應，所述鍍膜箱前端的上下兩側分別通過轉動軸與上擋板和下擋板，上擋板的位置與下擋板的位置相對應，所述主體板的上表面固定連接有電源開關組，電源開關組的輸入端連接外部電源的輸出端，電源開關組的輸出端電連接真空泵、分子泵、低溫泵和電加熱管的輸入端。

作為本實用新型的一種優選技術方案，所述密封板的前側固定連接有握把，握把上設有橡膠套，所述密封板的后側固定連接有密封條，盛料箱的進物口上設有密封槽，密封槽的位置與密封條的位置相對應且接觸連接。

作為本實用新型的一種優選技術方案，所述上擋板上設有觀察槽，觀察槽內設有透明玻璃，所述上擋板的上表面設有扶手槽，扶手槽位于觀察槽的前側。

作為本實用新型的一種優選技術方案，所述主體板的下表面四角分別固定連接有墊塊。

作為本實用新型的一種優選技術方案，所述上擋板的前側設有兩個連接槽，連接槽內固定連接有彈簧和伸縮桿，彈簧的位置與伸縮桿的位置相對應且套接，彈簧和伸縮桿的伸縮端與滑動凸起固定連接，所述下擋板的前側設有兩個卡槽，卡槽的位置與滑動凸起的位置相對應且卡接。