[實(shí)用新型]一種液態(tài)源的儲(chǔ)存裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201822177492.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN209922073U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-01-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 史麗萍;徐長(zhǎng)坡;陳澄;李亞哲;陳凱;謝依燁;陳春江;梁效峰;楊玉聰;王浩 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 天津環(huán)鑫科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B65D90/02 | 分類(lèi)號(hào): | B65D90/02;B65D88/54;B65D90/48 |
| 代理公司: | 12213 天津諾德知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人: | 欒志超 |
| 地址: | 300384 天津市濱海新區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 石英 液態(tài)源 源罐 加厚 補(bǔ)液管 上蓋 不銹鋼 本實(shí)用新型 儲(chǔ)存裝置 補(bǔ)充液 出口管 罐表面 進(jìn)液管 鐵氟龍 易清洗 平滑 內(nèi)置 儲(chǔ)存 穿過(guò) 腐蝕 保證 清潔 | ||
一種液態(tài)源的儲(chǔ)存裝置,包括不銹鋼源罐和放置于源罐內(nèi)部的石英罐,源罐的頂部設(shè)有上蓋,上蓋上有進(jìn)液管和出口管,石英罐的底部設(shè)有兩個(gè)加厚部,加厚部之間為凹槽,補(bǔ)液管分別穿過(guò)源罐和石英罐設(shè)于凹槽內(nèi)。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:在不銹鋼源罐中內(nèi)置石英罐,防止液態(tài)源對(duì)鐵氟龍涂層的腐蝕,保證了液態(tài)源的清潔;石英罐表面平滑且附件少易清洗,補(bǔ)液管設(shè)于石英罐底部,可以減少補(bǔ)充液對(duì)石英罐內(nèi)的液態(tài)源壓力和溫度的變化,保證液態(tài)源的儲(chǔ)存環(huán)境。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及儲(chǔ)存裝置領(lǐng)域,尤其涉及一種液態(tài)源的儲(chǔ)存裝置。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體行業(yè)的迅速發(fā)展,半導(dǎo)體硅片產(chǎn)能日趨擴(kuò)大,半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)用的源罐為不銹鋼材質(zhì),內(nèi)部鍍有鐵氟龍涂層,鐵氟龍涂層一定時(shí)間后會(huì)產(chǎn)生收縮和脫落現(xiàn)象,對(duì)液態(tài)源造成污染,也會(huì)對(duì)硅片造成傷害;且源罐清洗頻次較大,清洗過(guò)程中清洗劑的腐蝕和無(wú)塵布的反復(fù)擦拭,也會(huì)引起涂層的脫落,因此本發(fā)明提供一種液態(tài)源的儲(chǔ)存裝置,能夠保證液態(tài)源的清潔和硅片的完整。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的問(wèn)題是提供一種液態(tài)源的儲(chǔ)存裝置。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種液態(tài)源的儲(chǔ)存裝置,其特征在于:包括源罐和放置于所述源罐中的石英罐,所述石英罐底部的兩端設(shè)有兩個(gè)加厚部,所述加厚部之間的凹槽上設(shè)有補(bǔ)液管,所述源罐設(shè)有上蓋,所述上蓋上設(shè)有進(jìn)液管和出口管,所述出口管的底端延伸至所述凹槽。
進(jìn)一步地,所述石英罐內(nèi)設(shè)有液位計(jì),所述補(bǔ)液管上設(shè)有控制閥,所述液位計(jì)通過(guò)所述控制閥控制所述補(bǔ)液管開(kāi)關(guān)。
具體的,所述液位計(jì)為浮球液位計(jì)。
進(jìn)一步地,所述石英罐底部的凹槽中設(shè)有加熱棒。
進(jìn)一步地,所述石英罐中設(shè)有壓力傳感器,所述壓力傳感器通過(guò)電磁閥與所述補(bǔ)液管連接。
本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:
(1)在不銹鋼源罐中增加內(nèi)置石英罐,液態(tài)源與石英材料直接接觸,防止了液態(tài)源對(duì)鐵氟龍涂層的腐蝕,保證了液態(tài)源的清潔;不銹鋼源罐的附加裝置和密封部件較難清洗,石英罐表面平滑且不帶有附加裝置,清洗過(guò)程簡(jiǎn)單方便,提高了工作效率;
(2)石英罐底部設(shè)有凹槽,液態(tài)源較少時(shí)都集中在凹槽處,可以提高液態(tài)源的使用率;
(3)補(bǔ)液管設(shè)于石英罐底部,可以減少補(bǔ)充液對(duì)石英罐內(nèi)液態(tài)源壓力和溫度的變化,保證液態(tài)源的儲(chǔ)存環(huán)境,提高液態(tài)源的質(zhì)量。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖圖中:1.源罐,2.石英罐,3.上蓋,4.進(jìn)液管,5.出口管,6.加厚部,7. 加熱棒,8.補(bǔ)液管,9液位計(jì)
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例做進(jìn)一步描述:
如圖1本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖所示,一種液態(tài)源的儲(chǔ)存裝置,包括源罐1和放置于源罐1內(nèi)部的石英罐2,源罐1的頂部設(shè)有上蓋3,上蓋3上有進(jìn)液管4和出口管5,石英罐2的底部設(shè)有兩個(gè)加厚部6,加厚部6 之間為凹槽,補(bǔ)液管8分別穿過(guò)源罐1和石英罐2設(shè)于凹槽內(nèi)。
一種液態(tài)源的儲(chǔ)存裝置,主要用于SiCl4、GeCl4、POCl3、TCS等高腐蝕液的儲(chǔ)存,由于該液態(tài)源一般情況下以液態(tài)儲(chǔ)存,使用時(shí)為氣態(tài),因此源罐的上蓋3有進(jìn)液管4和出口管5,出口管5用于將轉(zhuǎn)化后的氣體通入反應(yīng)腔用于生產(chǎn)。石英罐2底部的兩端設(shè)有兩個(gè)加厚部6,兩個(gè)加厚部6之間形成凹槽,當(dāng)液態(tài)源含量較少時(shí)都集中在凹槽處,出口管5的一端設(shè)于凹槽內(nèi),可以充分的利用石英罐2內(nèi)部的液態(tài)源,提高液態(tài)源的使用率。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于天津環(huán)鑫科技發(fā)展有限公司,未經(jīng)天津環(huán)鑫科技發(fā)展有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201822177492.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
- 化工園區(qū)液態(tài)環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)源監(jiān)測(cè)布點(diǎn)方法
- 一種液態(tài)氫源材料的脫氫反應(yīng)系統(tǒng)及其使用方法
- 一種基于氫燃料電池的液態(tài)氫源材料供氫反應(yīng)系統(tǒng)
- 一種分散液態(tài)烴裂解成氣的定量評(píng)價(jià)方法
- 一種P5000機(jī)臺(tái)BPSG工藝的改進(jìn)設(shè)備
- 一種液態(tài)源蒸發(fā)裝置
- 液態(tài)金屬場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制備方法
- 一種液態(tài)源的儲(chǔ)存裝置
- 一種應(yīng)用于MOCVD新型液態(tài)源氣化系統(tǒng)的載氣裝置
- 一種液態(tài)源擴(kuò)散裝置





