[實用新型]適應高粉塵環境的場鏡防護裝置

有效

• 申請號: 201822176556.2
• 申請日: 2018-12-25
• 公開（公告）號: CN209681422U
• 公開（公告）日: 2019-11-26
• 發明（設計）人: 張中華
• 申請（專利權）人: 蘇州華英光電儀器有限公司
• 主分類號: B23K26/142
• 分類號: B23K26/142
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本案涉及一種適應高粉塵環境的場鏡防護裝置，包括環形底座以及安裝固定于環形底座上的高壓噴嘴，所述環形底座與場鏡筒體底部相匹配，所述高壓噴嘴用于向場鏡鏡頭外側噴出純凈高壓空氣；所述高壓噴嘴的噴氣方向與高壓噴嘴和場鏡鏡頭焦點所在徑線呈20°?40°夾角；本案的場鏡防護裝置通過噴出一定溫度的高速氣流，非接觸的去除場鏡鏡頭上的灰塵，并且不干擾場鏡的正常工作。

技術領域

本實用新型屬于激光打標技術領域，具體涉及一種適應高粉塵環境的場鏡防護裝置。

背景技術

隨著激光技術的日漸成熟，激光被廣泛運用于打標、焊接領域。激光打標機在工作時對于周圍環境的粉塵濃度要求較高，因而激光打標車間通常需要專設空氣凈化設備，但即便如此，激光打標時產生的大量煙霧和粉塵仍難免會粘附在激光打標所需的場鏡鏡頭表面，會遮擋住激光束，影響激光打標機的正常工作，長期如此還會使鏡頭表面受熱臟污，導致鏡頭膜層脫落，鏡片臟污損壞嚴重甚至使場鏡炸裂。

有鑒于此，有必要提出一種能在高粉塵環境下工作的場鏡防護裝置。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種能在高粉塵環境下，非接觸的去除場鏡鏡頭灰塵的裝置。

本實用新型的另一個目的是提供一種能防止去除的灰塵二次污染的氣流除塵裝置。

為了解決上述技術問題，本實用新型公開了一種適應高粉塵環境的場鏡防護裝置，包括環形底座以及安裝固定于環形底座上的高壓噴嘴，所述環形底座與場鏡筒體底部相匹配，所述高壓噴嘴用于向場鏡鏡頭外側噴出純凈高壓空氣。

優選的是，所述高壓噴嘴的噴氣方向與高壓噴嘴和場鏡鏡頭焦點所在徑線呈20°-40°夾角。

優選的是，所述高壓噴嘴通過軟管與儲有純凈空氣的氣泵或氣罐相連。

優選的是，所述高壓噴嘴為鴨嘴型噴氣嘴。

優選的是，所述高壓噴嘴有若干個。

優選的是，所述高壓噴嘴均勻設于環形底座下側或內側。

優選的是，所述高壓噴嘴每隔0-60min噴氣一次。

優選的是，所述環形底座為圓型或矩形環。

優選的是，所述環形底座外側設有還有對稱設置的卡止夾。

優選的是，所述卡止夾將環形底座緊扣在場鏡筒體底部。

本實用新型的適應高粉塵環境的場鏡防護裝置，具有以下優點：

1. 通過噴出一定溫度的高速氣流，非接觸的去除場鏡鏡頭上的灰塵，并且不干擾場鏡的正常工作。

2. 高壓噴嘴的噴氣方向與高壓噴嘴和場鏡鏡頭焦點所在徑線呈一定夾角，高壓噴嘴斜向場鏡鏡頭噴出高速氣流，多條斜向場鏡鏡頭噴出的高速氣流在場鏡鏡頭附近形成氣旋，有利于迅速帶走從場鏡鏡頭上剝離下來的灰塵，防止灰塵再次沾染到場鏡鏡頭形成二次污染。

附圖說明

圖1為一種適應高粉塵環境的場鏡防護裝置結構示意圖。

具體實施方式

下面通過實施例對本實用新型做進一步的詳細說明，以令本領域技術人員參照說明書文字能夠據以實施。

應當理解，本文所使用的諸如“具有”，“包含”以及“包括”術語并不排除一個或多個其它元件或其組合的存在或添加。

如圖1所示，一種適應高粉塵環境的場鏡防護裝置，包括環形底座1以及安裝固定于環形底座上的高壓噴嘴2，所述環形底座1與場鏡筒體底部相匹配，所述高壓噴嘴2用于向場鏡鏡頭外側噴出溫度為25℃-50℃的純凈高壓空氣。