[實(shí)用新型]基底傳輸裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201822173873.9
• 申請(qǐng)日: 2018-12-24
• 公開（公告）號(hào): CN209150070U
• 公開（公告）日: 2019-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱俊宇;唐文力;陶洪建;吳錢忠;祝玥華;李田田
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/677
• 分類號(hào): H01L21/677
• 代理公司: 上海思捷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種基底傳輸裝置，其特征在于，包括存儲(chǔ)模塊、升降模塊、控制模塊及對(duì)稱設(shè)置的第一傳感器模塊和第二傳感器模塊，所述升降模塊連接所述存儲(chǔ)模塊以驅(qū)動(dòng)所述存儲(chǔ)模塊沿豎直方向移動(dòng)，所述存儲(chǔ)模塊內(nèi)沿豎直方向設(shè)置有若干基底，所述第一傳感器模塊及所述第二傳感器模塊等高設(shè)置并在對(duì)準(zhǔn)所述基底時(shí)觸發(fā)檢測(cè)動(dòng)作，所述控制模塊通過獲取所述第一傳感器模塊及所述第二傳感器模塊之間的觸發(fā)間隔以判斷出所述基底的狀態(tài)。

2.如權(quán)利要求1所述的基底傳輸裝置，其特征在于，所述存儲(chǔ)模塊沿著豎直方向設(shè)置有若干組平行的基底槽，所述基底設(shè)置于所述基底槽內(nèi)，所述基底的狀態(tài)包括所述基底處于跨槽狀態(tài)、疊片狀態(tài)及正常狀態(tài)。

3.如權(quán)利要求1所述的基底傳輸裝置，其特征在于，所述基底傳輸裝置還包括一固定框架，所述存儲(chǔ)模塊具有一用于拿取所述基底的取片口，所述第一傳感器模塊及所述第二傳感器模塊設(shè)置于所述取片口兩側(cè)的固定框架上且對(duì)準(zhǔn)所述取片口。

4.如權(quán)利要求3所述的基底傳輸裝置，其特征在于，所述第一傳感器模塊及所述第二傳感器模塊均為漫反射激光傳感器。

5.如權(quán)利要求3所述的基底傳輸裝置，其特征在于，所述第一傳感器模塊及所述第二傳感器模塊均為鏡面反射激光傳感器，且所述存儲(chǔ)模塊內(nèi)還設(shè)置有兩個(gè)對(duì)稱的反射板，兩個(gè)所述反射板分別與所述第一傳感器模塊及所述第二傳感器模塊對(duì)應(yīng)。

6.如權(quán)利要求3所述的基底傳輸裝置，其特征在于，所述基底傳輸裝置還包括第三傳感器模塊及用于拿取所述基底的機(jī)械手模塊，所述第三傳感器模塊設(shè)置于所述固定框架上，所述機(jī)械手模塊上設(shè)置有第一標(biāo)定物，所述第三傳感器模塊對(duì)準(zhǔn)所述第一標(biāo)定物時(shí)觸發(fā)檢測(cè)動(dòng)作，以檢測(cè)出所述機(jī)械手模塊的平面運(yùn)動(dòng)范圍。

7.如權(quán)利要求6所述的基底傳輸裝置，其特征在于，所述第三傳感器模塊為漫反射激光傳感器，所述第一標(biāo)定物為標(biāo)定孔。

8.如權(quán)利要求6所述的基底傳輸裝置，其特征在于，所述第三傳感器模塊為鏡面反射激光傳感器，所述第一標(biāo)定物為第一反射鏡。

9.如權(quán)利要求6所述的基底傳輸裝置，其特征在于，所述機(jī)械手模塊的任一側(cè)設(shè)置有第二標(biāo)定物，所述第一傳感器模塊或所述第二傳感器模塊對(duì)準(zhǔn)所述第二標(biāo)定物時(shí)觸發(fā)檢測(cè)動(dòng)作，以檢測(cè)出所述機(jī)械手模塊的豎直運(yùn)動(dòng)范圍。

10.如權(quán)利要求9所述的基底傳輸裝置，其特征在于，所述第一傳感器模塊或所述第二傳感器模塊為漫反射激光傳感器時(shí)，所述第二標(biāo)定物為V形槽；所述第一傳感器模塊或所述第二傳感器模塊為鏡面反射激光傳感器時(shí)，所述第二標(biāo)定物為設(shè)置于所述V形槽內(nèi)的第二反射鏡。